3.1 反射光学基础 3.1.1 晶体的光吸收性 3.1.2 晶体的反射力和反射率 3.1.3 晶体的反射非均质性 3.2 反光显微镜及试样制备 3.2.1反光显微镜的构造 3.2.2反光显微镜的垂直照明器 3.2.3反光显微镜的调节和校正 3.2.4反光显微镜试样的制备 3.3 反射光下晶体的光学性质 3.3.1 晶体的反射率 3.3.2 晶体的反射色和反射多色性 3.3.3 晶体的内反射和内反射色 3.3.3 晶体的双反射、偏光色和偏光图 3.4 反射光下的腐蚀试验、显微硬度研究和 3.4.1试祥光片的腐蚀试验 3.4.2 晶体的显微硬度 3.4.3 反射光下晶体的鉴定 3.5 光学显微镜下晶体的显微结构特征 3.5.1 晶体的形态学研究 3.5.2 晶体的显微结构特征

4.1 原电池 4.2 电极电势 4.3电动势与电极电势在化学上的应用 4.4 化学电源(自学） 4.5 电解（自学） 4.6 金属腐蚀及其防止

4.1 原电池 4.2 电极电势 4.3 电动势与电极电势在化学上的应用 4.4 化学电源(自学） 4.5 电解（自学） 4.6 金属腐蚀及其防止

第一节 腐蚀 第二节 氧化－界面在金属氧化中的作用 第三节 辐射损伤

简要介绍了传统专家系统知识库所存在的问题,提出了一个基于神经网络的碳钢和低合金钢大气腐蚀知识库系统,并着重阐述了这种新型知识库系统的知识获取、知识表示和系统的实现等问题

9.1 概述 9.1.1 数学形态学的发展简史及基本思想 9.1.2 几个基本概念 9.2 二值形态学 9.2.1 二值腐蚀 9.2.2 二值膨胀 9.2.3 二值开运算 9.2.4 二值闭运算 9.3 灰值形态学 9.3.1~9.3.4 灰度腐蚀、膨胀、开运算、闭运算 9.3.5 灰值形态学梯度 9.3.6 高帽变换和低帽变换 9.3.7 开－闭运算和闭－开运算

采用脉冲电镀法在黄铜表面制备出具有(111)、(200)和(220)晶面择优生长织构的纳米晶纯镍镀层.采用扫描电镜对镀层的显微形貌进行观察,采用X射线衍射对不同晶面织构的择优性进行表征,并对镀层在3.5%NaCl溶液中的动电位极化曲线和交流阻抗谱进行了测试,研究不同织构镀层的耐蚀性能.不同织构镀层的耐蚀性能存在显著差异:具有(220)强织构的镀层耐蚀性最差,其自腐蚀电流密度最大,为1.23μA·cm-2,镀层的电荷转移电阻为2.09kΩ·cm2;具有(200)强织构的镀层耐蚀性能最佳,镀层的电荷转移电阻为27.32kΩ·cm2,自腐蚀电流密度为0.15μA·cm-2;具有(111)织构镀层的耐蚀性居中.认为织构引起的表面胞状物的差别是造成纯镍镀层耐蚀性能不同的原因

• 电子材料与器件的可靠性 • 电子材料与器件的失效分析 • 电子材料与器件的腐蚀形态 • 应用举例

一、总则 二、试验方法 （一）第一阶段试验 1、急性吸入毒性试验 2、急性经皮毒性试验 3、急性经口毒性试验 4、急性眼刺激性/腐蚀性试验 5、皮肤刺激性/腐蚀性试验 6、皮肤变态反应试验（皮肤致敏试验） （二）第二阶段试验 1、鼠伤寒沙门氏菌回复突变试验（Ames 试验） 2、体外哺乳动物细胞染色体畸变试验 3、体内哺乳动物骨髓细胞染色体畸变试验 4、体内哺乳动物骨髓嗜多染红细胞微核试验 5、哺乳动物精原细胞/初级精母细胞染色体畸变试验，或 精子畸形试验 6、啮齿类动物显性致死试验 7、免疫毒性评价试验方法 8、亚急性吸入（14/28 天）毒性试验 9、亚急性经皮（21/28 天）毒性试验 10、亚急性经口（28 天）毒性试验 （三）第三阶段试验 1、亚慢性吸入毒性试验 2、亚慢性经皮毒性试验 3、亚慢性经口毒性试验 4、致畸试验 5、两代繁殖毒性试验 6、迟发性神经毒性试验 （四）第四阶段试验 1、慢性吸入毒性试验 2、慢性经皮毒性试验 3、慢性经口毒性试验 4、致癌试验，或 慢性毒性/致癌性合并试验 5、毒物代谢动力学试验 6、接触人群调查与观察（参考国内外有关专著或教科书） （五）参考试验 1、皮肤变态反应试验-局部淋巴结法 2、大肠杆菌回复突变试验 3、酵母菌基因突变试验 4、体外哺乳动物细胞正向基因突变试验 5、果蝇伴性隐性致死试验 6、枯草杆菌基因重组试验 7、体外哺乳动物细胞程序外 DNA 合成（UDS）试验 8、体内哺乳动物外周血细胞微核试验 9、体外哺乳动物姊妹染色单体交换（SCE）试验 10、体内哺乳动物骨髓细胞姊妹染色体交换（SCE）试验 11、繁殖/生长发育毒性筛选试验 12、亚急性毒性合并繁殖/发育毒性筛选试验 13、一代繁殖试验 14、神经毒性筛选组合试验

使用连续称重装置和非连续称重装置对Fe25Cr20Ni合金在H2S-H2气氛中的高温硫化行为进行了研究。结果表明:这种合金的硫化行为遵循抛物线规律,腐蚀产物有3层:最外层(称OL-Ⅱ层)由Fe-Ni-S系统组成;中间层(称OL-Ⅰ层)由Fe-Cr-S系统组成;内硫化层(Subscale)由一些弥散的硫化物相组成,标记实验的结果表明:合金在硫化过程中,腐蚀产物最外两层的生长是由金属离子向外扩散控制,而内硫化层的生长是由分解机理控制