无论Eye-in-Hand或Eye-to-Hand型式的机器视觉控制系统,均存在视场受限、丢失等情况,从而无法在一定距离、角度内对目标进行在线视觉测量,进而无法建立全闭环的伺服控制.基于Eye-in-Hand型式的机器视觉控制系统,以及最短测量距离Lmin,提出一种闭环与开环相结合的伺服控制系统:即测量距离大于Lmin时为位置反馈型闭环控制的原位调姿,在测量距离小于Lmin时为位置给定型开环控制,机器人以相对线性运动进给到目标位置.针对该过程中的偏移问题,提出了前馈补偿模型,即利用前期运动数据对运动误差进行估计.实验证明,该方法能有效地补偿定位误差

一、pH值(氢离子浓度) 天然水的pH值大多数在4~10之间,特殊情况 可达到0.9~12之间。海水的pH最稳定,一 般在8~8.5之间。内陆水体的pH变化辐度就大 得多,沼泽水由于含多量古敏酸,有时还有硫 酸或其他强酸的存在,可使pH降到3~4以下, 有些盐碱性湖,由于含有大量碳酸钠,pH可达 9~11但是一般淡水水体由于二氧化碳平衡体 系的缓冲作用,pH多在6~9之间变化,有时由 于浮游植物的强烈光合作用,pH在午后一段时 间可达9~10以上

排水固结法是对天然地基,或先在地基中设置砂井(袋装砂井或塑料排水带)等竖向排 水体,然后利用建筑物本身重量分级逐渐加载:或在建筑物建造前在场地先行加载预压 使土体中的孔隙水排出,逐渐固结,地基发生沉降,同时强度逐步提高的方法。该法常用 于解决软粘土地基的沉降和稳定问题,可使地基的沉降在加载预压期间基本完成或大部分 完成,使建筑物在使用期间不致产生过大的沉降和沉降差。同时,可增加地基土的抗剪强 度,从而提高地基的承载力和稳定性

3-1概述 3-2传动轴的外力偶矩·扭矩及扭矩图 3-3薄壁圆筒的扭转 3-4等直圆杆在扭转时的应力·强度分析 3-5等直圆杆在扭转时的变形·刚度条件 3-6等直圆杆的扭转超静定问题 3-7等直圆杆在扭转时的应变能 3-8非圆截面等直杆在自由扭转时的应力和变形 3-9开口和闭合薄壁截面在自由扭转时的应力

镜像法 当流体外部流场中存在奇点(如点源、点涡 等)时,常用镜像法求得满足边界条件的复 位势,其作法是在物体内部适当位置也布置 奇点,称为外部奇点的镜像,使得由奇点及 其镜像产生的复速度势满足物体边界总是 条流线 如欲求圆柱外一位于=0点,强度为r的点涡的复位势,可在圆柱内点 添加一强度为-r的点涡,在原点添加一强度为r的点涡,三个奇点在圆柱 外共同产生的复位势即所求的复位势,且保证圆柱面本身是一条流线

为了使应用高温低氧燃烧技术的加热炉达到高效节能、低污染物特别是低NOx排放的目的,采用计算机数值模拟优化设计了加热炉的蓄热式燃烧系统,并运用冶金反应工程学方法开发了成套技术.该技术在唐钢高速线材厂的实际应用表明:在热装钢坯条件下单位能耗为0.879 GJ/t,炉子热效率在67%以上,各蓄热室的排烟温度在160℃以下,NOx排放小于40×10-6(体积分数)

中锰钢是近年来出现的新型钢铁材料，因为其优异的力学性能被认为是第三代汽车用钢，但是该钢的一个突出特点就是在拉伸变形时会发生塑性失稳，导致材料结构稳定性减弱甚至在某些情况下过早失效，这已然成为限制中锰钢商业化使用的关键问题。塑性失稳包括出现不连续屈服和屈服平台（吕德斯应变）以及流变应力锯齿（PLC效应）。两者都受到成分、晶粒形貌、退火工艺、组织构成等因素的影响，也均与拉伸变形过程中 奥氏体相变转变存在或强或弱的相关性，使得这一塑性失稳现象的机理更为复杂化，因而在近期各种观点迥异的理论解释也相继被提出。本文综述了相关研究中各种因素对吕德斯应变和PLC效应的影响结果及相关理论解释，并着重指出了各理论解释的局限性及未来的研究思路。最后，基于现有研究和预研实验对在保证中锰钢超高强度和优良塑性的前提下消除中锰钢塑性失稳现象的可行途径进行了展望

薄液膜大气腐蚀的本质是吸附于金属基体表面的水汽形成薄电解质液膜引起的金属腐蚀现象.由于液膜很薄,无法满足常规的三电极溶液测试体系要求,使得微区电化学技术在该领域得到广泛的应用.本文对比分析了用于薄液膜大气腐蚀的电化学测试技术,着重介绍了扫描Kelvin探针、丝束电极、微液滴电极等测试方法在薄液膜大气腐蚀研究中的应用,并通过总结测试中涉及的关键参数揭示了薄液膜/液滴尺寸与腐蚀动力学过程的关系.最后提出了微区电化学方法在该领域应用目前存在的问题以及今后可进一步提升的可能

采用水热法,在磁控溅射铺膜后的ITO-基底(MST-基底)上制备出取向一致的SnO2纳米线阵列.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)等手段对制备的纳米线阵列进行了表征.考察了不同的基底铺膜方式和退火温度对产物形貌、尺寸和取向性的影响.结果表明,不同的基底铺膜方法对产物的形貌和尺寸有较大的影响:在磁控溅射法铺膜的基底上生长出SnO2纳米线阵列;在旋涂法铺膜的基底上生长出SnO2纳米棒阵列;在未铺膜基底上生长出SnO2纳米颗粒薄膜.另外,退火温度对生长在磁控溅射铺膜基底上的产物的取向性有较大的影响,随着退火温度的升高,产物的取向性增强

在工程设计工作中,经常要对设备、零件等标注序号。根据标准化要求,在标注点处要加上 实心小圆点,然后引出直线;在另一端画出一个8~10mm的圆;在圆中写上所标注的序号 文字。用AutoCAD基本命令完成上述工作费工费时,并且不易修改,特别是在图形密集处, 效果很不理想,图面质量差