What does Materials Science have to do with Microelectronic Processing? Need to understand DIfferences: metals, oxides and semiconductors Atomic bonding Oxidation rates, compound formation(GaAs)

§3-1 单跨静定梁 §3-1 静定梁受力分析 §3-2 静定刚架受力分析 一. 刚架的受力特点 二. 刚架的支座反力计算 三. 刚架指定截面内力计算

1额定工作电压380V,额定发热电流3A,额定控制容量100VA 2.继电器按其所具有延时的与不延时的触头组成可分为如表1所列4种型。 3每种型号的继电器还可分为:

1问题的提出 例1.某工厂有3种机器M1,M2,M3, 各为m1,m2,m3台.该厂生产P1,P2,P3, P这4种产品.T=(t;)34中的t为生产 P产品一个单位需要机器M的小时数 i=1,2,3;j=1,2,3,4.设4种 品的单位利润率为c1,c2,c3,c4。假定生 产这4种产品所用的机器无先后之分,每周 机器开动不超过60小时,在一周内应如何

第1章 绪论 1-1 本课程的研究对象和目的 1-2 投影的方法 第2章 点和直线 2-1 两投影面体系中点的投影 2-2 三投影面体系中点的投影 2-3 两点的相对位置 2-4 直线的投影 2-6 两直线的相对位置 2-5 属于直线上的点 2-7 直角投影定理 第3章 平面 §3-1 平面的表示法 §3-2 各种位置平面的投影特性 §3-3 属于平面的点和直线

假定氩-氢等离子体处于局部热力学平衡状态,利用理想气体分子运动论和经典查普曼-恩斯科格(ChapmanEnskog)方法,在获取符合直流电弧等离子体喷射法实际工况的等离子体热力学和输运参数的基础上,基于FLUENT软件进行二次开发,添加电磁场相关的电流连续方程、安培定律等方程及洛伦兹力、焦耳热等源项,模拟研究氩氢摩尔比对等离子体放电特征影响规律.结果表明:在气压为8 k Pa,工作电流150 A,氩氢摩尔比由3∶1降至1∶3时,等离子体最大流速由829 m·s-1增至1127 m·s-1,最高温度由20600 K逐渐降低至16800 K,电弧对基体的加热能力逐渐增强的同时使基体表面温度均匀性变差.在其他条件不变的前提下,氩氢摩尔比为1∶2时能获得适宜金刚石生长且相对均匀的基体表面温度

本文研究了Fe73.5Nb3Cu1Si13.5B9新型高性能铁基超微晶软磁合金的性能与结构特征。结果表明,该合金的最佳退火温度为535℃,其起始磁导率μ(0.08A/m)=14.8×104,矫顽力Hc=0.6A/m,饱和磁感B(800A/m)=1.22T。最佳铁损分另为P5·10k=5.6W/kg,P5·20k=17.4W/kg,P5·50k=80W/kg,P5·100k=270W/kg。且在相当宽的频率范围内具有高有效磁导率μ＇1X射线衍射分析表明.合金中主相为xFe-Si固溶体,晶粒尺寸约为11nm,点阵参数a0为0.2837nm

中科院 一九九七年攻读硕士学位研究生入学试题 《细胞生物学》B卷 一、名词解释(共25分) 1.扫描隧道微镜(ecanning tunneling sicroscope) 2.精(glycocalyx) 3.核层(3《auc1ea1aina) 4.变体介导内吞(receptr-mediated- endocytosis) .检查点(checkpoints) 6.信号对答(crotalking)

1均衡和调节 1．1 调节的目的 1．2 调节的方式 1．3 调节池体积的确定 1．4 废水浓度的调节 1．5 调节池的位置 2格栅与筛滤连 2．1 格栅 2．2 筛网 2．3 筛余物的处置 3 重力沉降法连 3．1 概述 3．2 自由沉降试验及去除率 的计算连 3．3影响絮凝沉降速度的因素 连 3.4 理想沉淀池工作过程分析 连 3.5 沉砂池连 3.6 沉淀池 3.7 隔油池

该反应在全混流反应器中进行，反应温度为 20℃，液料的体积流量为0.5m3/h, CA0=96.5mol/m3, CB0=184mol/m3,催化剂 的浓度CD=6.63mol/m3。实验测得该反应的速 度方程为： rA=kCACD 式中k=1.15*10-3m3/(mol.ks)。若要求A的 转化率为40%，试求反应器的体积