使用X射线衍射仪、MAAS自动图像仪及气体分析,对1#(美国HITEC公司产)过滤器与2#(昌平产ZrO2基泡沫)过滤器在高温合金冶炼过程中的过滤效果及其组织结构变化进行对比分析.研究结果表明,2种过滤器对钢中氧化物夹杂均有显著去除效果,并且过滤器的组织结构会对其高温性能、冲击性能及过滤作用产生一定的影响

通过采用一步纳米金属颗粒辅助化学刻蚀法(MACE)成功制备了多孔硅纳米线, 并主要研究了硅片掺杂浓度、氧化剂AgNO3浓度以及HF浓度对硅纳米线阵列形貌结构的影响规律. 研究结果表明: 较高的掺杂浓度更有利于刻蚀反应的发生和硅纳米线阵列的形成, 这是由于高掺杂浓度在硅片表面引入了更多的杂质和缺陷, 同时高掺杂浓度的硅片与溶液界面形成的肖特基势垒更低, 更容易氧化溶解形成硅纳米线阵列; 在一步金属辅助化学刻蚀法制备多孔硅纳米线阵列的过程中, 溶液中AgNO3浓度对于其刻蚀形貌和结构起到主要作用, AgNO3浓度过低或过高时, 硅片表面会形成腐蚀凹坑或坍塌的纳米线簇, AgNO3浓度为0.02 mol·L-1时, 硅纳米线会生长变长, 最终形成多孔硅纳米线阵列. 随着硅纳米线的增长, 纳米线之间的毛细应力会使得一些纳米线顶部出现团聚现象; 且当HF溶液浓度超过4.6 mol·L-1时, 随着HF酸浓度的增加, 硅纳米线的长度随之增加. 同时, 硅纳米线的顶部有多孔结构生成, 且硅纳米线的孔隙率随HF浓度的增加而增多, 这是由于纳米线顶部大量的Ag+随机形核, 导致硅纳米线侧向腐蚀的结果. 最后, 根据实验现象提出相应模型对多孔硅纳米线的形成过程进行了解释, 归因于银离子的沉积和硅基底的氧化溶解

第四讲、有机合成设计技巧(II) 一、1,2-二氧化化合物的合成 二、1,4-二羰基化合物的合成 三、烯胺在有机合成中的应用 四、1,6-二羰基化合物的合成 五、有机合成中的导向基

现代霍尔-埃鲁特(H-H)法铝电解槽规模大、工艺成熟, 利用该法电解制备铝基合金具有明显技术和经济优势. 目前国内外研究主要是在现有氟化物熔盐体系中添加多种合金元素氧化物, 合理调节电解质成分和工艺参数, 借助共电沉积和欠电位机制, 成功制备出多种铝基合金, 工业化试验亦有初步成果. 本文综合分析了上述进展及发展前景, 并指出在实现合金组成精准调控、合金产品成分均匀化、电解槽高电流效率运行等方面存在的问题, 旨在为相关研究提供参考

一、数码相机的定义 数码相机又称为数字相机,简称DCS(Digital Still Camera)。其实质是一种非胶片相机,它 采用CCD(电荷藕合器件)或CMOS(互补金 属氧化物半导体)作为光电转换器件,将被摄 物体以数字形式记录在存储器中

利用40tVOD精炼炉脱碳冶炼00Cr13Ni4Mo超低碳马体不锈钢.通过合理控制炉内参数得到,吹氧时炉内真空度在26660 Pa左右,停吹氧时真空度在7998 Pa;开吹温度控制在1600℃左右,停吹温度在1750~1800℃左右;开吹时提高供氧强度至570 Nm3·h-1左右,吹炼后期降低供氧强度至550 Nm3·h-1左右,可以避免铬的大量氧化;控制氧枪高度在75mm;开吹供氩强度控制在48.4 NL3·min-1,提高低碳区供氩量至117.5 NL3·min-1,用以加快钢包内钢水环流速度

为克服传统纹理分析的缺陷识别结果易受光照变化和氧化铁皮不利影响的缺点,提出了结构谱纹理分析方法,并将其应用于中厚板表面麻点、夹杂、结疤等缺陷的识别.实验结果表明,结构谱方法具有较好的光照不变性,对麻点、夹杂、结疤等缺陷的识别率要高于灰度共生矩阵、Laws纹理能量、傅里叶功率谱等其他纹理分析方法

为贯彻《 《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国大气污染防治法》,控制锅炉污染物排 放,防治大气污染,制定本标准。 本标准是对GB1327191《锅炉大气污染物排放标准》的修订0.7M(1t/h)自然通风 标准修订的主要内容是:进一步明确了标准的适 用范围,增加了容量< 燃煤锅炉烟尘、烟气黑度、二氧化硫的最高允许排放浓度限值增加了燃油、燃气锅炉烟尘、烟气黑 度、二氧化硫、氮氧化物的最高允许排放浓度限值

地球表面的空气处于不断的运动之中,空气相对地面的水 …平运动就形成风。风是空气质量及各种物理属性如热量、 动量、水汽、二氧化碳、灰尘等输送的动力,农田中热量、水汽、二 氧化碳等的调节主要是借助风的作用。同时风也是天气变化和气候形 成的重要因素

(1)卤化冶金概念的提出:金属卤化物与相应金属的其它化合物比较,大都具有低熔点、高挥发 性和易溶于水等性质,因此将矿石中的金属氧化物转变为氯化物,并利用上述性质将金属氯 化物与一些其它化合物和脉石分离。所谓氯化冶金就是将矿石(或冶金半成品)与氯化剂混 合,在一定条件下发生化学反应,使金属变为氯化物再进一步将金属提取出来的方法