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四川大学:《固体物理学》课程教学资源(教案讲义)第七章 半导体电子论
文档格式:PDF 文档大小:586.29KB 文档页数:28
半导体是电导率介于金属导体和绝缘体之间的一大类导电物体,它们的电导率大约 分布在10cm~103-cm之间。用半导体制成的各种器件有极广泛的用途,通过 不同的掺杂工艺,可以把半导体制成各种电子元件,如作为电子计算机及通讯、自动控 制工程基础的晶体管和集成电路等。另外,半导体对电场、磁场、光照、温度、压力及 周围环境气氛等外部条件非常敏感,因此它是敏感元器件的重要材料
华中科技大学:《机电传动控制》课程教学资源(讲义)第十章 交流调速控制系统
文档格式:PDF 文档大小:303.34KB 文档页数:14
长期以来,在电动机调速领域中,直流调速方案一直占主要地位。 60 年代以后,随着电力电子学与电子技术的发展,使得采用半导体变流技术的交流调 速系统得以实现,特别是 70 年代以来,大规模集成电路和计算机控制技术的发展,为交流 电力传动的进一步开发创造了有利的条件
北京大学:《半导体物理学 Physics of Semiconductors》课程教学资源(教案讲稿)第一章 绪论
文档格式:PDF 文档大小:998.57KB 文档页数:21
§1.1 半导体物理与微电子学的关系 §1.2 微电子学与半导体物理发展之间关系 §1.3 集成电路技术的发展规律 §1.4 微电子技术发展趋势和面临的挑战 §1.5 本课程的定位和内容安排
《大学物理》PPT参考资料:第八章 固体的能带结构 §8.7 半导体的其他特性和应用
文档格式:PPT 文档大小:971.5KB 文档页数:10
8.7半导体的其他特性和应用 一、热敏电阻(自学) 二、光敏电阻(自学) 三、温差电偶(自学) 四、集成电路:
××高科技有限公司(CMP抛光液)商业计划书
文档格式:DOC 文档大小:754KB 文档页数:57
主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。 生产产品主要包括: ➢ 以“FA/O 超大规模集成电路(ULSI)多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化(CMP)纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品; ➢ 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O 电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路(ULSI)衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳,液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次采油率等领域
安顺学院:《电子技术基础》课程PPT教学课件(模拟部分,第六版)第四章 场效应三极管及放大电路
文档格式:PPT 文档大小:6.98MB 文档页数:128
4.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应三极管 4.2 MOSFET基本共源极放大电路 4.3 图解分析法 4.4 小信号模型分析法 4.5 共漏极和共栅极放大电路 4.6 集成电路单级MOSFET放大电路 4.7 多级放大电路 4.8 结型场效应管(JFET)及其放大电路 *4.9 砷化镓金属-半导体场效应管 4.10 各种FET的特性及使用注意事项
中国科学技术大学:《电子技术基础》课程教学资源(课件讲稿,模拟电路部分)总复习
文档格式:PDF 文档大小:1.7MB 文档页数:92
第一章 绪论 第二章 运算放大器 第三章 半导体二极管及其基本电路 第四章 三极管及放大电路基础 第五章 场效应管放大电路 第六章 模拟集成电路 第七章 反馈放大电路 第九章 信号处理与产生电路
中国科学技术大学:《电子技术基础》课程教学资源(PPT课件讲稿,模拟部分)总复习
文档格式:PPT 文档大小:1.53MB 文档页数:93
第一章 绪论 第二章 运算放大器 第三章 半导体二极管及其基本电路 第四章 场效应管放大电路 第五章 三极管及放大电路基础 第七章 模拟集成电路 第八章 反馈放大电路 第十章 信号处理与产生电路
清华大学:《模拟电子电路》课程教学资源(PPT课件讲稿)第一章 集成电路元、器件基础(1.3)双极型晶体管(BJT)
文档格式:PPS 文档大小:629KB 文档页数:41
概念:由三个杂质半导体区(发射区,基区,集电区)及两个PN结(发射结和集电结)构成的,有两种载流子(自由电子和空穴)在其内部作扩散、复合、漂移等复杂运动的PNP或NPN晶体管
西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第一章 半导体工业介绍
文档格式:PPT 文档大小:1.77MB 文档页数:15
第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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