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武汉职业技术学院:《塑料成型工艺与模具设计》课程教学资源(PPT课件讲稿)第三章 弯曲工艺与弯曲模设计 第五节 弯曲力的计算 第六节 弯曲件的工艺性 第七节 弯曲件的工序安排
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1.理解纸盒的生产工艺,明白影响纸盒质量的主要因素,掌握其主要工序。 2.掌握手工纸盒的生产工艺
文档格式:PDF 文档大小:1.98MB 文档页数:45
一、铸造成形方案的选择 二、铸造成形工艺参数的确定 三、铸造成形工艺图
文档格式:PPT 文档大小:631.5KB 文档页数:21
2.5塑料注射模塑工艺 一、注射模塑原理
文档格式:PPT 文档大小:180KB 文档页数:16
2.4.1零件结构的工艺性 2.4.2 零件结构的铸造工艺性
文档格式:PPT 文档大小:296.5KB 文档页数:40
3.3.1 自由锻工艺设计 3.3.2 锤模锻工艺设计 3.3.3 冲压工艺设计(自学)
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本篇主要介绍了液态成形工艺方法的基本原理、各种液态成形工艺方法和 零件的结构工艺性和铸造工艺设计。学完本篇要求学生了解并掌握液态成形工 艺方法的基本原理、各种液态成形工艺方法和零件的结构工艺性和铸造工艺设 重点:重点为铸造工艺基础、铸造生产方法、铸件的结构及工艺设计
文档格式:PPT 文档大小:512.5KB 文档页数:29
2.4塑料压缩模塑工艺 一、压缩模塑原理 1.成型方法
文档格式:PPT 文档大小:2.44MB 文档页数:10
一、概述 本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)
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概述本章将介绍基本芯片生产工艺的概况, 主要阐述4中最基本的平面制造工艺,分别是: 薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理工艺 薄膜制备是在晶体表面形成薄膜的加工工艺。 图4.4是MOS晶体管的剖面图,可以看出上面有 钝化层(Si3N4、Al2O3)、金属膜(AI)、氧化层(SiO2) 制备这些薄膜的材料有:半导体材料(Si、 GaAs等),金属材料(Au、A等),无机绝缘 材料(SiO2、Si3N4、Al2O3等),半绝缘材料 (多晶硅、非晶硅等)
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