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采用真空熔炼法, 经急冷和缓冷两种不同冷却条件制备了Te系化合物TeAsGeSi合金粉体.通过X射线衍射分析, 急冷工艺制备粉体呈非晶态, 缓冷工艺制备的粉体呈晶态, 结晶主相为R-3m空间群的As2GeTe4; 差热-热重分析显示, 升温至350℃时缓冷粉体As2GeTe4成分熔融, 400℃时两种粉体均开始快速失重, 为避免制备过程中发生材料熔融及挥发损失, 确定烧结温度不超过340℃.采用真空热压法制备TeAsGeSi合金靶材, 将两种粉体分别升温至340℃, 加压20 MPa, 保温2 h制备出两种靶材, 其中缓冷粉体制备的靶材致密度高, 为5. 46 g·cm-3, 达混合理论密度的99. 5%, 形貌表征显示此靶材表面平整, 孔洞少, 元素分布均匀
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与气相色谱法比较,HPLC的优点 1. 分析对象广 气相色谱只限于分析气体和沸点较低的化合物; HPLC不受样品挥发性和热稳定性的限制,适用于高沸点、热稳 定性差、摩尔质量大的物质。原则上讲,几乎可以分析除永久气 体外所有的有机和无机化合物
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(一)、托特定理 (二)、图的一因子分解 (三)、图的二因子分解 (四)、图的森林因子分解
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房屋受到外界各种因素的影响,会使房屋 产生变形、开裂、导致破坏。这些因素包括温 度变化的影响、房屋相邻部分承受不同荷载的 影响、房屋相邻部分结构类型差异的影响、地 基承载力差异的影响和地震的影响等。为了防 止房屋破坏,常将房屋分成几个独立变形的部 分,使各部分能独立变形、互不影响,各部分 之间的缝隙称房屋的变形缝
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– 上下文无关文法 – 自上而下分析和自下而上分析 – 围绕分析器的自动生成展开 3.1 上下文无关文法 3.2 语言和文法 3.3 自上而下分析 3.4 自下而上分析 3.5 LR分析器 3.6 二义文法的应用 3.7 分析器的生成器
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◼ 4.1 荧光光谱概述 ◼ 4.2 分子荧光光谱的基本原理 ◼ 4.3 荧光激发光谱和荧光发射光谱 ◼ 4.4 荧光光谱的特征 ◼ 4.5 影响荧光光谱的因素 ◼ 4.6 荧光光谱仪 ◼ 4.7 样品的制备 ◼ 4.8 荧光光谱法的测试方法和技巧 ◼ 4.9 分子荧光光谱的应用
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在第二章中,我们讨论了一 维随机变量函数的分布,现在我 们进一步讨论: 当随机变量X,X2,…,X的联合分布 12 已知时,如何求出它们的函数
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差分格式的稳定性 线性多步法 常微分方程组的有限差分法 高阶常微分方程的有限差分法
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1.掌握分析的含义及特点; 2.掌握分析的程序、要领和技巧; 3.增强统计分析的实际能力
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基于全尾砂絮凝过程中絮团弦长的测定,分别研究絮凝和沉降两个过程:首先以絮团平均弦长为指标研究不同絮凝条件下全尾砂絮凝行为,再以固液界面初始沉降速率为指标分析不同絮凝全尾砂料浆的沉降行为。探明了不同絮凝条件下全尾砂尺寸演化规律,全尾砂均快速絮凝形成絮团,絮团的平均弦长增长达到峰值后随着剪切时间逐渐下降,直至达到稳定状态。发现全尾砂絮团的平均弦长与絮凝全尾砂料浆固液界面的初始沉降速率随着不同的絮凝条件而不断改变,确定了在本文研究范围内的最优絮凝条件:Magnafloc 5250絮凝剂,全尾砂料浆固相质量分数10%,絮凝剂单耗10 g·t?1,絮凝剂溶液中絮凝剂质量分数0.025%,剪切速率94.8 s?1。最优条件下絮凝过程中絮团平均弦长峰值为620.63 μm,絮凝结束时絮团平均弦长为399.57 μm,絮凝全尾砂料浆固液界面初始沉降速率为4.61 mm·s?1。初步建立了适用于本文全尾砂的基于絮团平均弦长的固液界面初始沉降速率模型,固液界面初始沉降速率随着絮团平均弦长的增加而增加,为实际生产中控制全尾砂絮凝沉降参数以及设备结构优化、提高全尾砂料浆的絮凝沉降效率提供参考
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