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为提高单晶硅纳米切削表面质量的同时, 不影响加工效率, 以扫描电子显微镜高分辨在线观测技术为手段, 在真空环境下开展了单晶硅原位纳米切削实验研究.首先, 利用聚焦离子束对单晶硅材料进行样品制备, 并对金刚石刀具进行纳米级刃口的可控修锐.然后, 利用扫描电子显微镜实时观察裂纹的萌生与扩展, 分析了单晶硅纳米切削脆性去除行为.最后, 分别采用刃口半径为40、50和60 nm的金刚石刀具研究了晶体取向和刃口半径对单晶硅脆塑转变临界厚度的影响.实验结果表明: 在所研究的晶体取向范围内, 在(111)晶面上沿[111]晶向进行切削时, 单晶硅最容易以塑性模式被去除, 脆塑转变临界厚度约为80 nm.此外, 刀具刃口半径越小, 单晶硅在纳米切削过程中越容易发生脆性断裂, 当刀具刃口半径为40 nm时, 脆塑转变临界厚度约为40 nm.然而刀具刃口半径减小的同时, 已加工表面质量有所提高, 即刀具越锋利越容易获得表面质量高的塑性表面
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人教版(2012)小学数学二年级下册2 表内除法(一)2.用2~6的乘法口诀求商导学案(2)
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人教版(2012)小学数学二年级下册2 表内除法(一)2.用2~6的乘法口诀求商导学案(4)
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人教版(2012)小学数学二年级下册2 表内除法(一)2.用2~6的乘法口诀求商导学案
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利用扫描电迁移率颗粒物粒径谱仪(SMPS),针对不同孔径的介孔材料SBA-15,探索对UFPs(2.5~25 nm)的去除效率及脱除机理,以期为介孔材料过滤脱除UFPs在钢铁工业颗粒物超低排放控制的应用提供理论基础。基于实验结果及表征分析得知:UFPs入孔效应使大孔径介孔过滤介质效率更佳;介孔材料孔径端部内外表面存在大量UFPs亲和位点,提高端部复杂程度有利于提升材料过滤性能;氮气的有无对UFPs去除结果基本没有影响;介孔的存在使UFPs扩散效应更强,颗粒入孔使扩散系数增加,故UFPs在介孔材料实际扩散结果与传统扩散模式理论值(m=?2/3)不同
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人教版(2012)小学数学二年级下册2 表内除法(一)2.用2~6的乘法口诀求商教案(1)
文档格式:PDF 文档大小:1.81MB 文档页数:11
氮化碳作为一种具有高催化性能的光催化剂,具有无毒无害,自然环境下稳定的性质,在水解制氢气氧气以及降解有机污染物领域得到了广泛的关注. 其中类石墨相氮化碳(g-C3N4)因其特殊的片层结构而具有较高比表面积,常配合孔结构的构造,提供光生载流子及反应物质的运输通道以及大量活性位点用于氧化还原反应,是具有高光电性能的一种光催化剂.制备该种催化剂孔结构的方法有硬模板法,软模板法与非模板法,其中硬模板法需要在实验后除去模板,软模板法的模板会随着高温除去,非模板法的制备过程没有模板的参与。本文根据近年文献的整理,着重阐述和比较各制备方法的优劣,结合常用的修饰手段总结各制备方法的变化趋势和发展方向,并对后续研究中制备方法的使用前景做出判断
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本章主要介绍数据与文字的表示方法,定点加/减法运算及加法器,定点乘法运算,定点除法运算,定点运算器的组成与结构,浮点运算方法和浮点运算器。 2.1 数据与文字的表示方法 2.2 定点数的加减法运算及加法器 2.3 定点乘法运算 2.4 定点除法运算 2.5定点运算器的组成与结构 2.6浮点运算方法和浮点运算器
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• 营养与免疫 • 营养与冠心病 • 营养与高血压 • 营养与糖尿病 免疫系统 ⚫抵抗 ⚫清除 ⚫修复 免疫(Immunity) 是机体识别和排除抗原性异物的一种防卫功能。 这种功能由免疫系统来承担; 免疫器官 免疫细胞 免疫分子 功能正常 功能异常
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 “免于疫病”——Immune  在两条战线上保护机体  抵抗外来的感染物——抗感染免疫  清除体内异常的细胞——清除死亡细胞,抗肿瘤免疫,  抗感染免疫的三道防线:  第一道防线:阻挡和抑制外物侵入  第二道防线:快速反应  第三道防线:特异和持久的反应
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