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盐酸溶液中乌鲁托品对钢的缓蚀性能
文档格式:PDF 文档大小:501.29KB 文档页数:4
用电化学阻抗谱(EIS)和开路电位测量法(OCPM)研究了在1mol·L-1盐酸溶液中乌鲁托N(UP)与45#钢的界面吸附及缓蚀行为.EIS表明:随着缓蚀剂UP浓度的增大,吸附膜逐渐形成,电荷传递电阻增大.在缓蚀剂浓度为0.01mol·L-1时,缓蚀效率出现最大值;大于该浓度时,缓蚀效率下降.OCPM表明:加缓蚀剂UP前后体系自腐蚀电位的改变与温度的倒数呈线性关系.UP对阳极过程有抑制作用,是阳极型缓蚀剂;吸附热为一35kJ/mol,吸附形式为物理吸附.
华中科技大学:《机电传动》课程教学资源(PPT课件)第一章 概述
文档格式:PPT 文档大小:100KB 文档页数:6
1.1 机电传动控制的目的与任务 1.2 机电传动控制的发展
清华大学:《电工技术》课程教学资源(PPT课件讲稿)第四章 三相交流电路
文档格式:PPT 文档大小:1.05MB 文档页数:52
§4.1 三相交流电源 4.1.1 三相电动势的产生 4.1.2 三相交流电源的连接 §4.2 三相负载及三相电路的计算 4.2.1 星形接法及计算 4.2.2 三角形接法及计算 §4.3 三相电路的功率
《固体物理学》课程教学资源(讲义)第七章 半导体电子论(7.4)电导和霍耳效应
文档格式:PDF 文档大小:455.81KB 文档页数:2
1.半导体电导率 在一般电场情况下,半导体的导电服从欧姆定律:j=E--为电导率 半导体中可以同时有两种载流子,将电流密度写成:j=nq+pqv ,分别为空穴和电子在外场下获得的平均漂移速度 —平均漂移速度和外场的关系:
东华大学出版社:《光电信息技术》教材电子教案(PPT课件讲稿)前言、目录
文档格式:PPT 文档大小:537KB 文档页数:45
光电信息技术是光子技术与微 电子技术的结合,是现代信息技术 的核心,已广泛应用于各行各业。 本书比较全面地介绍了光电信息技 术的物理基础、电光信息转换、光 电信息转换和光电信息技术的应用 ,比较注重光电信息技术应用的新 成果和新发展
北京大学:《电磁学》课程教学资源(PPT课件)第一章 静电场(1.2)电场强度
文档格式:PPT 文档大小:737.5KB 文档页数:21
一、电场 库仑定律给出了两个点电荷相互作用的定量关系 问题:相互作用是如何传递的?
《电工学》答案 第1章 电路的基本概念与定律
文档格式:PDF 文档大小:163.49KB 文档页数:12
《电工学》答案 第1章 电路的基本概念与定律
北京大学:《电磁学》课程教学资源(习题讲义)讨论一
文档格式:DOC 文档大小:1.26MB 文档页数:2
基本题 1.一无限长带电线,电荷线密度为,将它弯成如图所示,求p点场强 2.一半径为R,电荷体密度为p
《低频电子线路》课程PPT教学课件:第五章 放大电路的频率特性(2/3)
文档格式:PPT 文档大小:653KB 文档页数:13
1频率响应(或称频率特性) 2.波特图
西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第一章 半导体工业介绍
文档格式:PPT 文档大小:1.77MB 文档页数:15
第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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