3.1.1测得某放大电路中BJT的三个电极A、B、c的对地电位分别为a=-9v,VB= 6V,Vc=-6.2V,试分析A、B、C中哪个是基极b、发射极e、集电极c,并说明此BJT是NPN 管还是PNP管

第一部分 电子线路实验基础 实验一 元器件知识及仪器使用 第二部分 常用实验仪器 仪器一 YB1713双路直流稳压电源 仪器二 XD22型低频信号发生器 仪器三 COS5020TM型双踪示波器 仪器四 AS2173D型交流毫伏表 仪器五 XJ4810A型半导体管特性图示仪

2.1.1在室温(300K)情况下,若二极管的反向饱和电流为1nA,问它的正向电流为0.5mA 时应加多大的电压?设二极管的指数模型为i=l(e\\7-1),其中n=1,Vr=26mV

3.1.1测得某放大电路中BJT的三个电极A、B、C的对地电位分别为VA=-9V,VB 6V,Vc=-6.2V,试分析A、B、C中哪个是基极b、发射极e、集电极c,并说明此BJT是NPN 管还是PNP管

电力电子学是研究电力的传送、电力的变换、电力的控制和电力的开关的电子学， 又称为功率电子学， 工业上称它为电力电子技术或半导体变流技术。 内容概要： 无触点开关 交流不间断电源 高压直流输电 静止无功补偿器 静止无功发生器 有源电力滤波器 可再生能源与电网的互联 灵活交流输电

§１.１ 晶闸管的结构和工作原理 §１-２晶闸管的特性 §１-３晶闸管的主要参数 §１-４大功率二极管 §１-5 散热技术

§5-1 对晶闸管触发电路的基本要求 §5-2 单结晶体管移相触发电路 §5-3 锯齿波同步移相触发电路 §5-4 触发脉冲与主电路的同步 §5-5 干扰及抑制措施

对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等

1. 解释掺杂在芯片制造过程中的目的和应用； 2. 讨论杂质扩散的原理和过程； 3. 对离子注入有一个总体认识，包括它的优缺点； 4. 讨论剂量和射程在离子注入中的重要性； 5. 列举并描述离子注入机的5各主要子系统； 6. 解释离子注入中的退火效应和沟道效应； 7. 描述离子注入的各种应用

通过本章的学习，将能够： 1. 辨别出模拟和数字、有源和无源器件的不同。说明在无源器件中寄生结构的影响； 2. 对PN结进行描述，讨论其重要性，并解释其反向偏压和正向偏压的不同； 3. 描述双极技术特征和双极晶体管的功能，偏压、结构及应用； 4. 描述 CMOS 技术的基本特征，包括场效应晶体管、偏压现象以及CMOS反相器 5. 描述 MOSFET 增强型和耗尽型之间的区别； 6. 描述寄生晶体管的影响和 CMOS 闩锁效应的本质； 7. 列举一些集成电路产品，描述其各自的一些应用