1.已知随机变量的概率分布为P(5=k)=1,k=135,21,23;求D 2.某射手对目标进行三次独立射击,每次射击的命中率为0.9,求击中目标弹数ξ的方差

一、钙、磷在体内的分布与存在形式 1、钙、磷的主要存在形式:磷酸钙和羟磷灰石 2、血钙与血磷的关系:[Ca][P]=35~40

一．基本概念： 1． 半导体材料、本征半导体、载流子、杂质半导体（N 型、P 型）及其导电性能 2． PN 结及其 PN 结的单向导电型 3． 二极管、三极管的结构、分类、输入输出特性（曲线）、常用参数

一、力矩4-2力矩转动定律转动惯量 (Torque)刚体绕O轴旋转,力FM作用在刚体上点P,且在转动平面内,r为由点O到力的作用

7-1 解： 当 d2 由 400mm 减小为 280mm 时，满足运输带速度提高到 0.42m/s 的要求。但 由于运输带速度的提高，在运输机载荷 F 不变的条件下，因为 P=Fv。即输出的功率 增大，就 V 带传动部分来说，小轮转速 n1 及 d1 不变，即带速不变，而传递的功率要 求增加，带上有效拉力也必须增加，则 V 带根数也要增加，故只改变 d2 是不行的

1 求图中环心O 处的磁场. 2 无限长直导线在P 处完成半径为R 的圆，当通以电流I 时，求圆心O 点的磁感强度大小

一 填空 单片机与普通计算机的不同之处在于其将（ ）（ ）和（ ）三部分集成于一块芯片上。 答：CPU、存储器、I/O 口 8051 与 8751 的区别是：答：内部程序存储器的类型不同 在 MCS－51 单片机中，如果采用 6MHz 晶振，1 个机器周期为（ ）。答：2us。 内部 RAM 中，位地址为 30H 的位，该位所在字节的字节地址为（ ）。答：26H 若 A 中的内容为 63H，那么，P 标志位的值为（ ）

采用交流阻抗技术对化学镀Ni-P合金的沉积过程进行原位测定,所获得的Nyquist阻抗图上出现感抗圈。综合交流抗击以及还原剂浓度影响研究结果,提出一个包括H2PO2-离子表面吸附步骤的化学镀镍电化学机理

分析了InP1-InP2优势区相图及E-pH图的特点,提出了用q函数和p函数作为确定优势区的判别准则。这种方法很容易编制程序,且易推广到其他类型,具有较强的通用性

为满足新国家标准对铱标准样品的要求,研制出用于光谱分析的高纯铱基体.通过实验研究,确定了高纯铱基体研制的工艺流程为P204萃取除去贱金属阳离子→N235萃取除去以络合阴离子存在的贵金属杂质→H2还原除铑及其他金属杂质→732#树脂交换除去痕量的贱金属阳离子→NH4Cl沉淀铱、H2还原铱→HF除硅.研制出的铱基体纯度高达99.999%.实验研究全流程铱的直收率为61.99%,铱的总收率为95.26%