1、掌握醇、酚、醚的结构及命名; 2、理解醇、酚、醚的的物理性质及醇、酚的光谱性质; 3、掌握醇、酚、醚的化学性质及醇、苯酚、醚的制备:

§12.1 胶体系统的制备 §12.2 胶体系统的光学性质 §12.3 胶体系统的动力性质 §12.4 溶胶系统的电学性质 §12.5 溶胶的稳定性与聚沉

12.1.结构、分类与命名 12.2 醛、酮的制备 12.3.物理性质和光谱特 12.4 化学性质 12.5 重要的醛酮（自学）

对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等

第一节 光学分析概论 一、电磁辐射和电磁波谱 二、光学分析法及其分类 三、光谱法仪器——分光光度计 第二节 紫外-可见吸收光谱 一、紫外-可见吸收光谱的产生 二、紫外-可见吸收光谱的电子跃迁类型 三、相关的基本概念 四、吸收带类型和影响因素

经典物理，以牛顿为代表，认为光是波。 19世纪末，出现了一系列有关光的实验 ，无法用光的波动理论解释。经典物理 受到严峻的挑战！光电效应是其中一个 典型的代表。 光照射在金属表面时，金属表面会有电 子射出——称为光电效应

绪论 第一章 光学显微分析 第二章 X-射线衍射分析 第三章 电子显微分析 第四章 综合热分析 第五章 红外光谱分析

8.1概述 8.2PC-6319光电隔离模入接口卡

1885年伦琴发现,受高速电子撞击的金属会发射种穿透性很强的射线称Ⅹ射线

10.1通信网结构的发展 10.2光传送网结构分层与WDM网的物理通道 10.3光交叉连接设备 10.3波长变换技术