为满足新国家标准对铱标准样品的要求,研制出用于光谱分析的高纯铱基体.通过实验研究,确定了高纯铱基体研制的工艺流程为P204萃取除去贱金属阳离子→N235萃取除去以络合阴离子存在的贵金属杂质→H2还原除铑及其他金属杂质→732#树脂交换除去痕量的贱金属阳离子→NH4Cl沉淀铱、H2还原铱→HF除硅.研制出的铱基体纯度高达99.999%.实验研究全流程铱的直收率为61.99%,铱的总收率为95.26%

第一节 强度与塑性 第二节 硬度

一、配位滴定曲线 用EDTA标准溶液滴定金属离子M，随着标准溶液 的加入，溶液中M浓度不断减小，金属离子负对数 pM逐渐增大。当滴定到计量点附近时，溶液pM值 产生突跃（金属离子有副反应时，pM’产生突跃）， 通过计算滴定过程中各点的pM值，可以绘出一条 曲线

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