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建设工程监理概述 第一节建设工程监理在我国的形成与发展 一、建设项目管理 1、概念:建设项目管理又称工程项目管理 2、发展:施工阶段—设计到施工阶段决策、设计、施工阶段 3、内容:建设项目管理的组织、投资控制、进度控制、质量控制、合同管理 二、我国建设工程监理制度的起源 1982年云南鲁布革水电站,1986年开工的西安三元高速公路,1987年世行项目京津高速公路建设部1988年7月25日向全国建设系统印发第一个建设监理文件《关于开展建设监理工作的通知》

2 镇墩与支墩 （1）镇墩 抵抗管道水平方向力量。 地面管道（d>100mm）的拐弯处等。 （2）支墩 抵抗管道水平方向力量。 地基较软、d>300mm等处

第1章 流体输配管网形式 第2章 气体输配管网水力特征与水力计算

MOS晶体管模型 □MOS器件结构 阈值电压 MOS晶体管大信号特性 MOS器件寄生电容 □MOS晶体管小信号模型 CMOS模拟电路基本模块 □ MOS开关 □有源电阻 □电流源和电流镜 □电压基准和电流基准 单级CMOS放大器

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PDM技术最早出现在80年代初期,目的是为了解决大量工程图纸、技术文档 以及CAD文件的计算机化管理问题,然后逐渐扩展到产品开发过程中的三个主要 领域:设计图纸和电子文档的管理,材料明细表(BOM)及与工程文档的集成管 理,工程变更管理。由于早期软件功能比较单一,各自解决问题的侧重点也不完全 相同,所以有不同叫法,如文档管理( document management)、工程数据管理 engineering data management)等

第一节M管的串、并联特性 晶体管的驱动能力是用其导电因子B来表示的,值越大,其驱动能力越强。单个管 子是如此,对于多个管子的串、并情况下,其等效导电因子应如何推导?下面我们来具体 分析一下: 一、两管串联: 设:V相同,工作在线性区

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第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展