一． 选择题：（共 30 分） 1．在双缝干涉实验中，用单色自然光，在屏上形成干涉条纹，若在两缝后放一个偏 振片，则 [ ] （A） 干涉条纹的间距不变，但明纹的亮度加强。 （B） 干涉条纹的间距不变，但明纹的亮度减弱。 （C） 干涉条纹的间距不窄，但明纹的亮度减弱。 （D） 无干涉条纹

1，高层建筑结构的设计原则 2，高层建筑结构的荷载与作用 3，作用效应组合与结构设计的一般原则 4，框架结构设计 5，剪力墙结构设计 6，框架—剪力墙结构分析与设计 7，筒体结构、底层大空间剪力墙结构、带转换层的高层结构简介

一、单极型MOS(Metal Oxide Semiconductor)集成电路分PMOS、NMOS和CMOS三种。 二、NMOS电气性能较好，工艺较简单，适合制作高性能的存储器、微处理器等大规模集成电路。 三、而由NMOS和PMOS构成的互补型CMOS电路以其性能好、功耗低等显著特点，得到愈来愈广泛的应用。 四、主要介绍NMOS和CMOS门电路

例1.已知:一气缸如图,A,B内各有1mol理想气体N2. VA=VB,TA=TB.有335J的热量缓慢地传给气缸,活塞上 方的压强始终是1atm.(忽略导热板的吸热,活塞重量 及摩擦) 求:(1)A,B两部分温度的增量及净吸的热量

以五水硫酸铜(CuSO4·5H2O)为前驱体,聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为包裹剂,在水溶液中采用电化学方法在氧化铟锡(ITO)表面制备得到了形貌和尺寸均一的铜纳米粒子,并研究了前躯体的浓度、包裹剂的种类和浓度以及电化学沉积电位对产物的形貌和生长密度的影响.将得到的产物经过热处理后,会在表面生成一层黑色的氧化铜,经过测试发现其对光电分解水制氢具有良好的催化作用

一,光的干涉 1 理解相干光的条件及获得相干光的方法. 2 掌握光程的概念以及光程差和相位差的关系，理解在什么情况下的反射光有相位跃变. 3 能分析杨氏双缝干涉条纹及薄膜等厚干涉条纹的位置

1. 酸性 (pH≤1) - + 2+ MnO +8H +5e = Mn + 4H O 4 2  1.51 =测定：H2O2,2+ 2+ -H C O ,Fe ,Sn ,NO ,As(III) 2 2 4 2 2. 极强酸性，在P2O7

1．会分析本章实例中电力电子装置的电路原理。 2．学会电力电子技术电路识图方法。 3．了解电力电子装置在各个领域中的应用

本文研究了Ta-Cl2-H2体系在45钢表面化学气相沉积钽涂层工艺,讨论了钽的沉积速度与温度、五氯化钽和氢气压力之间的关系。本文还扼要介绍了用金相、x射线衍射和电子探针分析等方法测定涂层结构的研究结果。腐蚀试验结果表明,涂层样品在37.7%HCl,63%H2SO4介质中具有很高的抗蚀能力,其腐蚀速率比未涂层的可降低2～3个数量级

铁氧化物是具有非化学计量比的化合物,非化学计量对铁氧化物的还原过程带来一系列影响.本文采用Dieckmann缺陷模型和Weiss的浮氏体理想固溶体模型分别对非化学计量比的磁铁矿和浮氏体进行了热力学计算.同时根据电荷守恒和物质守恒,对铁氧化物固溶体的综合缺陷度δ与还原失重率和亚铁含量的关系进行了分析,以期对实验终产物的判定提供依据.通过理论分析与计算,最终明确了不同化学计量比的磁铁矿和浮氏体在不同温度下的平衡还原势PCO(H2),即相应的优势区图.在给定还原势的纯赤铁矿等温还原过程(未有金属Fe生成时),当失重率小于6%时,还原产物属于Fe3+占优势的磁铁矿区域;当失重率高于6%时,反应进入Fe2+占优势的浮氏体区域