狭缝型喷粉透气砖是铁水底喷粉脱硫预处理工艺重要功能性元件，对底喷粉脱硫工艺的顺利实施影响重大.结合实际应用情况，基于欧拉-欧拉双流体和颗粒动力学理论，对喷粉透气砖狭缝内气-固两相流进行了三维数值模拟，得到狭缝内的流场、压力场和颗粒相体积分数场分布.喷粉透气砖狭缝内颗粒相体积分数非均匀段长度一般为250 mm，加速段长度一般小于250 mm，在颗粒直径为20μm时单缝内的压降最大，为2350 Pa.工业试验结果表明，底喷粉工艺脱硫效率比同类型顶喷粉工艺提高15%以上

本文讨论了用于功率电子电路的晶闸管模型的建立方法。给出了一个适用于计算机辅助设计的非线性集中参数的晶闸管等效电路模型。模型的建立是基于对器件内部载流子运动的物理过程进行模拟,分析了器件的少数载流子注入;空间电荷区内部载流子的产生与复合;雪崩倍增效应;基区宽度调制效应及电荷存贮效应。将反映这些物理过程的数学公式用非线性电路元件表示,组成了由非线性电阻、电容及受控电流源所构成的晶闸管模型。利用这个模型可以分析晶闸管开关过程的动态非线性特性

一,问题的提出 1串联校正 如果校正元件与系统的不可变部分串联起来如图所示,则称这种形式的校正联校正

一、确定系统的输入量和输出量。 二、根据系统所遵循的基本定律,依次列写出各元件的运动方程。 三、消中间变量,得到只含输入、输出量的标准形式

一、轴承工作时元件上的载荷分布 (1)当轴承承受径向力Fr时,上半圈不受载下半圈受载

本章从引入电路模型的概念开始,介绍电流和电压的参考方向;吸收、发出功率的表达式和计算方法;常用的电路元件及其伏安特性,以及独立源、受控源;最后讲解基尔霍夫两个定律:电流定律和电压定律

全响应:由储能元件的初始储能和 独立电源共同引起的响应。 下面讨论RC串联电路在直流电压源作 用下的全响应。已知:uc(0-)= t=0时开关闭合

第三节 染色体 一、 中期染色体的形态结构 二、 染色体DNA的三种功能元件 三、 核型与染色体显带 四、 巨大染色体 第四节 核仁 一、 核仁的超微结构 二、 核仁的功能 三、 核仁周期 第五节 染色质结构核基因转录 一、 活性染色质的主要特征 二、 染色质结构与基因转录 第六节 核基质与核体 一、 核基质 二、 核体

第一章电路的基本定律和基本分析方法 1.1求图示电路每个元件的功率。 1.2试求图中各电路的电压

转录因子调控的基本方式 一、通过与顺式调控元件相互作用影响转录活性 二、通过与其它转录因子或辅助蛋白相互作用影响转录活性 一、DNA/RNA与蛋白质的相互作用技术 ❑ Report gene Assay ❑ EMSA ❑ ChIP ❑ SELEX 二、蛋白质与蛋白质的相互作用技术 ❑ Protein Affinity Chromatography ❑ co-immunoprecipitation，Co-IP ❑ Pull down ❑ Phage Display ❑ Yeast Two-hybrid ❑ Protein Array