10.1 概述 10.2 吸光光度法基本原理 10.3 分光光度计 10.4 显色反应及影响因素 10.5 光度分析法的设计 10.6 吸光光度法的误差 10.7 常用的吸光光度法 10.8 吸光光度法的应用

一、紫外可见吸收光谱 二、光的吸收定律 三、紫外可见分光光度计 四、紫外-可见分光光度法的应用

一、概述 （一）定义 （二）特点 二、基本原理 （一）一般分析过程 （二）基态原子及原子吸收光谱的产生 （三）基态与激发态原子的分配关系 （四）谱线的轮廓及其变宽 （五）积分吸收与峰值吸收 三、原子吸收分光光度计 （一）基本装置及其工作原理 （二）原子吸收光谱分析的实验技术

一、了解光见度函数、光通量、发光强度、照度等有关光度学的基本概念。 二、掌握瑞利分辨率条件;理解显微镜、光谱仪等仪器的分辨本领的计算公式。 三、理解光的色散现象及规律；掌握正常色散与反常色散的特征。 四、了解光散射的概念及规律,了解超显微镜的结构及工作原理。 五、了解荧光与磷光的概念、荧光光谱曲线,了解荧光光谱仪的构造及原理。 六、掌握光的吸收规律,了解光电比色计、分光光度计的结构及工作原理

利用等离子体浸没离子注入技术在多晶硅基底上制备了黑硅材料,利用扫描电镜、分光光度计和微波光电导衰减测试仪对黑硅的组织结构、光吸收率和少数载流子寿命进行了测试分析,发现黑硅呈现多孔组织,在可见光波段的平均吸收率大于94%,其平均少数载流子寿命为5.68μs.研究了注入工艺参数对黑硅的影响,发现工作气体SF6和O2流量比对黑硅的组织性能影响最大,当其为2.80时制备的黑硅组织性能最好

以SiO2有序大孔材料制备作为研究对象,系统考察了胶晶模板法中影响前驱物填充率的诸因素,包括填充方法、填充时间和填充次数.研究表明,直接浸渍法易导致大孔结构的收缩、脱落和表面覆盖.本文提出的在模板表面添加盖片再填充的方法有效解决了上述问题.当填充时间为5 min、填充次数为两次时,SiO2有序大孔材料的骨架填充率较高.扫描显微镜(SEM)和分光光度计的表征结果证实,实验成功制备了填充率高达22.53%的大面积SiO2有序大孔材料

实验利用单靶射频磁控溅射技术，在单晶硅基底上，制备了两个系列FeCrVTa0.4W0.4高熵合金氮化物薄膜，即FeCrVTa0.4W0.4氮化物成分梯度多层薄膜和(FeCrVTa0.4W0.4)Nx单层薄膜，其中，多层薄膜用于太阳光谱选择性吸收薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、纳米力学探针、原子力显微镜(AFM)、紫外−可见分光光度计、接触角测量仪和四探针测试台对FeCrVTa0.4W0.4高熵合金氮化物薄膜进行微观结构分析以及性能表征

一、紫外-可见吸收光谱法概述 二、 采用滤光片分光的紫外分光光度计 三、采用光栅连续分光的紫外分光光谱仪 四、采用紫外分光光谱仪

第一节 基本原理 第二节 原子吸收分光光度计 第三节 实验方法

1.掌握用原子吸收分光光度法进行定量测钙的方法 2.试验影响测定钙的因素 3.了解原子吸收分光光度计的大致结构及其使用方法