点击切换搜索课件文库搜索结果(990)
文档格式:DOC 文档大小:2.06MB 文档页数:70
1 化学反应速度、反应级数和活化能的测定 2 弱电解质电离常数的测定 3 氧化还原与电化学 4 银氨配离子配位数的测定 5 磺基水杨酸合铜配合物的组成及其稳定常数的测定 6 硫酸亚铁铵的制备和性质 7 三草酸合铁酸钾的制备和性质. 8 硫代硫酸钠的制备 9 水溶液中 Na+、K+、NH4+、Mg2+、Ca2+、Ba2+等离子的分离和检出 10 P 区元素重要化合物的性质 . 11 DS 区重要元素化合物的性质. 12 水溶液中 Ag+、Pb2+、Hg2+、Cu2+、Bi3+、Zn2+等离子的分离和检出 13 D 区元素重要化合物的性质 14 水溶液中 Fe3+、Co2+、Ni2+、Mn2+、Al3+、Cr3+、Zn2+等离子的分离和检出 15 阴离子定性分析63
文档格式:PDF 文档大小:1.17MB 文档页数:3
为了提高钛表面硬度和耐磨性,采用辉光放电等离子渗氧技术对钛进行表面处理.结果表明,渗氧层厚度与氧分压、温度和时间呈明显的对应关系.特别是,在空心阴极辉光放电条件下,离子轰击会加强氧的离子化,促进渗氧,有助于低价态氧化物的形成.在表层所形成的TiO其硬度达到或接近TiN的硬度水平.
文档格式:PPT 文档大小:3.59MB 文档页数:58
8-1电解质溶液的电导和测定方法 8-2离子的电迁移和迁移数 8-3极限迁移数,离子淌度与离子电导 8-4强电解质溶液的理论 8-5强电解质溶液的电导理论 8-6离子的水化(溶剂化)作用
文档格式:PPT 文档大小:598.5KB 文档页数:49
1.晶体学的基本概念,晶胞基本概念及主要类型。 2.金属晶体、金属健及金属晶体的堆积类型。 3.离子晶体、离子健、离子晶体的基本类型及离子晶体结构模型。 4.分子晶体和原子晶体
文档格式:PPT 文档大小:963.5KB 文档页数:44
电导、电导率、摩尔电导率 电导的测定 电导率、摩尔电导率与浓度的关系 离子独立移动定律 几个有用的关系式 电导测定的一些应用 离子的电迁移和迁移数 离子迁移数的测定 离子迁移率、迁移数、摩尔电导率之间的关系
文档格式:DOC 文档大小:62KB 文档页数:25
PH值 电位法.3 电导率 电位法.3 浊 度 浊度仪测定法.3 钙离子 指示剂法.4 氯离子 摩尔法.7 总碱度 指示剂法.9 总硬度 指示剂法.11 锌离子 分光光度法.13 总铁离子 分光光度法.16 正磷 钼酸铵分光光度法.18 总磷 钼酸铵分光光度法.20
文档格式:PDF 文档大小:556.04KB 文档页数:5
比较了运用固相烧结法制备的BiFe1-xCoxO3和BiFe1-xNixO3的晶体结构、饱和磁化强度和矫顽力随掺杂量的依赖关系.结果发现,强磁性的立方结构是掺杂样品磁性的主要来源.Ni掺杂样品的居里温度比Co掺杂样品高,这是由于原子间距和离子种类的不同造成了磁性离子间超交换作用的强弱变化所致.Co离子具有较强的单离子各向异性和偏离立方结构的晶格畸变,造成了Ni掺杂样品的矫顽力比Co掺杂样品低.变温磁滞回线的结果表明,BiCoO3样品的磁晶各向异性随温度降低而增大
文档格式:PDF 文档大小:1.05MB 文档页数:6
为提高不锈钢材料的耐冲蚀磨损性能,以Ni46合金粉末为原料,采用等离子熔覆工艺在不锈钢1Cr18Ni9Ti基材上制备镍基合金涂层,分析了熔覆层的显微组织以及物相形貌和相结构等,测定了涂层的显微硬度.使用旋转圆盘实验机研究了Ni基等离子熔覆合金涂层在砂浆中的冲蚀行为.结果表明:材料的冲蚀磨损性能受到材料基本力学性能的限制,高硬度镍基涂层的抗冲蚀性能最好,在相同实验条件下其磨损率由小到大排列顺序为镍基涂层>0Cr13Ni5Mo>1Cr18Ni9Ti;镍合金层中奥氏体基体的固溶强化和硬质相有效抵御砂砾的冲击,是Ni基等离子熔覆合金层具有高抗冲蚀性能的主要原因
文档格式:PDF 文档大小:453.7KB 文档页数:6
利用单矿物实验,研究了十二胺(DDA)对黄锑矿的浮选行为.研究发现:pH值为2.0~8.0时,黄锑矿浮选回收率达到90%以上;pH值为8.0~10.0时,黄锑矿浮选回收率急剧降低;当pH值〉10.0时,十二胺对黄锑矿几乎没有捕收作用.十二胺浮选溶液化学分析结果表明,十二胺阳离子(DDA+)是对黄锑矿产生捕收作用的主要成分.采用密度泛函理论研究了黄锑矿晶体以及十二胺离子和分子的电子结构性质,考察了十二胺离子、十二胺分子和水分子在黄锑矿表面的吸附行为.三种吸附质在黄锑矿表面吸附能顺序为DDA 〉 H2 O 〉 DDA+,十二胺离子可排开黄锑矿表面的水化膜,实现黄锑矿的疏水上浮,十二胺离子主要通过物理吸附形式吸附于黄锑矿表面
文档格式:PDF 文档大小:1.22MB 文档页数:5
本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面形貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度
首页上页56789101112下页末页
热门关键字
搜索一下,找到相关课件或文库资源 990 个  
©2008-现在 cucdc.com 高等教育资讯网 版权所有