§9.7 核反应的三阶段描述和核反应机制 §9.8 光学模型 §9.9 复合核模型 §9.10 直接反应 §9.11 重离子核反应

§9.1 核反应概述 §9.2 反应能 §9.3 实验室坐标系和质心坐标系 §9.4 核反应截面与产额 §9.5 核反应截面的一般特征和细致平衡原理 §9.6 反应截面的分波分析

§7.1 氧化还原反应的基本概念 §7.2 电化学电池 §7.3 电极电势 §7.4 电极电势的应用

概述 硅表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛 应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备

§2.1 热力学术语和基本概念 §2.2 热力学第一定律 §2.3 化学反应的热效应 §2.4 Hess定律 §2.5 反应热的求算

一. 制备方法 1.由低分子化合物(单体)合成缩聚、加聚和开环反应。 2.由一种聚合物制备另一种聚合物取代、交换和结构化反应

3.1 概述 3.2 化学反应的动力学基础 3.3 冶金反应的动力学基础

3.1.1 自由基的活性与反应 3.1.2 单体结构与聚合类型 3.1.3 自由基聚合的基元反应 3.1.4 自由基聚合反应特征

12.1 氧化还原反应 12.2 氧化还原反应方程式的配平 12.3 电极电势 12.4 原电池的电动势和自由能变的关系 12.5 影响电极电势的因素 12.6 电极电势的应用

1 氧化还原反应的基本概念 2 氧化还原反应方程式的配平 3 电极电势及其应用 4 件电极电热 5 氧化还原滴定法