14.1 干扰的来源 14.2 供电系统干扰及其抗干扰措施 14.2.1 电源噪声来源、种类及危害 14.2.2 供电系统的抗干扰设计 14.3 过程通道干扰的抑制措施—隔离 14.3.1 光电隔离的基本配置 14.3.2 光电隔离的实现 14.4空间干扰及抗干扰措施 14.4.1 接地技术 14.4.2 屏蔽技术 14.5 反电势干扰的抑制 14.6 印刷电路板的抗干扰设计 14.6.1 地线及电源线设计 14.6.2 去耦电容的配置 14.6.3 印制板的布线的抗干扰设计 14.7软件抗干扰措施 14.7.1 软件抗干扰的一般方法 14.7.2 指令冗余和软件陷阱 14.7.3 软件滤波 14.7.4 开关量输入/输出软件抗干扰设计 14.8 看门狗定时器的使用

第1节 无线数据通信概述 3.1.1 概念 3.1.2 主要类别 3.1.3 特点和应用 3.1.4 网络 3.1.5 发展趋势 第2节 红外无线数据通信 3.2.1 概述 3.2.2 系统组成、原理及分类 3.2.3 特点 3.2.4 主要协议——IrDA协议集 3.2.5 红外数据网络 第3节 蓝牙技术Bluetooth 第4节 基于802.11的无线局域网 3.4.1 无线局域网概述 3.4.2 无线局域网网络硬件 3.4.3 网络拓扑结构 3.4.4 网络协议IEEE802.11 3.4.5 无线局域网的频段分配 3.4.6 无线局域网的发展趋势 3.4.7 Wi-Fi新闻 第5节 紫蜂技术ZigBee 3.5.1 简介 3.5.2 协议套件 3.5.3 技术特点 3.5.4 主要应用领域

1. IR 脂肪族硝基化合物:1560cm-1,1390cm-1 芳香族硝基化合物:1530cm-1,1340cm-1 -NO2与芳环共轭使吸收峰向低波数移动。 2. 1HNMR -NO2为强吸电子基,使苯环上质子的化学位移向低场移动。 一、芳香族硝基化合物的反应

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1．1 程序设计语言 1．2 程序的基本概念 1．3 软件的基本概念 1．4 应用系统软件的开发

第 1 章 综论........................................................1 1.1 冲压的定义..............................................1 1.2 冲压工序分类..........................................1 1.3 冲压工艺的特点及其应用......................4 1.4 冲压变形的理论基础..............................5 1.4.1 金属塑性变形的概念.................5 1.4.2 影响塑性及变形抗力的主要因素.................................6

2.1 真空热蒸发镀膜技术 2.1.1 真空热蒸发镀膜的原理 2.1.2 真空热蒸发镀膜的方式及特点 2.2 溅射镀膜技术 2.2.1 气体放电原理 2.2.2 溅射现象 2.2.3 溅射镀膜技术分类及特点 2.3 化学气相沉积技术 2.3.1 CVD原理 2.3.2 CVD技术种类及特点 2.4 光刻技术 2.4.1 光刻原理 2.4.2 光刻工艺概述 2.4.2 光刻胶 2.4.3 对位和曝光 2.4.4 显影 2.5 刻蚀 Eching 2.5.1 刻蚀工艺的品质因数 2.5.2 湿法刻蚀 2.5.3 干法刻蚀

§1-1 截面的静矩和形心(The first moments of the area & centroid of an area) §1-4 转轴公式 (Rotation of axes) §1-2 极惯性矩 惯性矩 惯性积 (Polar moment of inertia Moment of inertia Product of inertia) §1-3平行移轴公式 (Parallel-Axis theorem)