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一、化工单元自动控制的一般设计原则 二、流体输送设备的自动控制 三、传热设备的控制 四、化学反应器的自动控制
文档格式:DOC 文档大小:4.94MB 文档页数:88
1、了解自发过程的共同特征,明确热力学第二定律的意义。 2、明确从卡诺热机得出克劳修斯原理和熵函数的逻辑性,从而理解克劳修斯不等式的重要性与熵函数的概念。 3、熟记并理解 S、A、G 的定义与各热力学函数间的关系。 4、明确利用热力学函数在特定条件下作为过程方向和限度的判据,熟练 Δ S 和 Δ G 的计算与应用。 5、了解熵的统计意义和热力学第三定律、规定熵的意义、计算及应用。 6、初步了解不可逆过程热力学关于熵流和熵产生等基本内容
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本书系统论述了药物中间体合成的基本反应与技术,包括中间体合成设计、环合反应、硝化 反应、磺化反应、酰化反应、加成反应、氧化反应、还原反应、缩合反应、氨解反应、烷基化反 应、卤化反应、手性药物中间体的合成及药物中间体分离与结构鉴定等内容。其中在各单元反应 中,在突出工艺、方法、技术、控制、分析及检测等技术的基础上,收录了许多翔实的反应 本书可作为高等院校相关专业的教材,适合大学生、研究生及教师阅读。也可供从事医药
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表面结冰给通讯、电力等工业领域带来巨大损失,电加热和喷洒乙二醇等主动除冰方法虽然在一定程度上可以解决上述问题,但在能源、人力、环境方面需付出较高代价。为解决这一问题,低成本、低能耗的被动式防/除冰表面被寄予厚望。防/除冰表面主要分为延长结冰时间的防冰表面和低冰粘附强度的除冰表面。由于实际工况的复杂性,除冰表面比防冰表面更具有可实现性。除冰表面主要与低表面能、界面滑动和裂纹产生相关,低冰粘附强度表面按实现机理可分为化学改性低表面能表面、润滑表面、界面滑动表面和裂纹源表面。本文对不同类型低冰粘附表面的低冰粘附强度产生的原因和表面的制备方法进行总结。同时,对冰粘附强度的测量标准进行了说明和讨论,以解释不同的测试方法对防/除冰性能测试结果造成的差异
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1.概述 2、工艺设计基础数据 3、工艺设计的内容和深度 4、工艺流程图(PFD) 5、设备设计压力和设计温度的确定原则 6、过程控制方案的确定 7、能耗计算 8、与工艺设计相关的消防、劳动安全及环境保护的基本知识 9、工艺设计工作程序
文档格式:DOC 文档大小:212.5KB 文档页数:36
一、目的与要求 1学习利用光谱图比较法进行光谱定性分析的操作方法。 2学会使用摄谱仪和光谱投影仪以及谱片的显影和定影方法。 二、实验原理 原子发射光谱分析法是根据受激发的物质所发射的光谱来判断其组成的一门技术。在室温下,物质中的原子处于基态E),当受外能(热能、电能等)作用时,核外电子跃迁至较高的能级(En),即处于激发态,激发态原子是十分不稳定的,其寿命大约为10-8s。当原子从高能级跃迁至低能级或基态时,多余的能量以辐射形式释放出来。其辐射能量与辐射波长之间的关系用爱因斯坦一普朗克公式表示:
文档格式:PDF 文档大小:13.82MB 文档页数:610
为更好地为厂矿化验室和有关单位技术人员提供切实的帮助,为其提供有关理化检测的 基础知识与方法,在化学工业出版社领导和责任编辑的大力支持下,编者对原《工厂分析化 学手册》第一版(1982年)和第二版(1992年修订本)再次进行了编写及修订。 本次编写及修订在保持原手册第一版和修订本主要特色的基础上,对有关章节及附录进 行了调整更新。本着湿法分析是基础,仪器分析是方向的原则,适当增加了一些章节。本手 册中内容全部采用法定计量单位
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离子交换色谱 (Ion Exchange Chromatography) 是利用离子交换原理和液相色谱技术 的结合来测定溶液种阳离子和阴离子的一 种分离分析方法. 凡是在溶液中能够电离的物质,通常 都可以用离子交换色谱法进行分离 无机离子,有机物(氨基酸\核酸\蛋白质)等
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(一)理论课程 1《材料科学基础》 2《电工学》 3《机械设计基础》 4《机械制造基础》 5《材料成形原理》 6《工程材料及热处理》 7《物理化学》 8《互换性与技术测量》 9《冶金传输原理》 10《理论力学》 11《材料力学 A》 12《工程制图(1)》 13《工程制图(2)》 14《材料分析测试技术基础》 15《材料成形设备》 16《焊接技术基础》 17《铸造工艺学》 18《锻造工艺与模具设计》 19《粉末冶金原理与工艺》 20《流体传动与控制》 21《模具制造工艺》 22《材料制备新技术》 23《功能材料》 24《塑料成型工艺与模具设计》 25《成形过程数值模拟》 (二)实践课程 26《毕业设计》 27《工程制图综合实训》 28《机械设计基础综合实训》 29《材料成型工艺综合实训》 30《专业方向课程设计》 31《先进制造技术综合实训》 32《生产实习》 33《专业综合实习》
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采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿(111)面择优生长
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