Principles and Applications of Industrial Plasma： 1、Introduction 2、Kinetic Theory of Gases 3、Motion of Charges in Electric and Magnetic Fields 4、Characteristics of Plasma 5、Electron Sources and Beams 6、Ion Sources and Beams 7、Dark Electrical Discharges in Gases 8、DC Electrical Arc Discharges in Gases 9、Inductive RF Electrical Discharges in Gases

绪论第二讲物质的化学组成第三讲溶液第四讲气体和等离子体第五讲核外电子运动的状态第六讲元素周期律、金属

D技术（NXPowerLite）.ppt第六讲等离子体辅助CVD技术（NXPowerLite）.pp

• 等离子体概况 • 等离子体技术的工业应用 • 等离子体技术应用实验教学平台的构建 1 等离子体原理 2 新材料的合成 3 材料的等离子体改性 4 材料加工

1.1 The social role of industrial plasma engineering 1.2 Important definitions 1.3 Plasma physics regimes and issues

1 大气压交流放电氦气等离子体射流及其诊断. 1 2 低温等离子体对 PVC 表面亲水性的改变.8

水质一铝、砷、钡、铍等20个元素CP-AES法(试行) 电感耦合等离子体原子发射光谱法(Inductively coupled plasma-Atomic- emission spectrometry 简称ICP-AES),是以电感耦合等离子矩为激发光源的一类光谱分析方法,由于具有检出限低、 准确度及精密度高、分析速度快、线性范围宽等优点,因此在国外ICP-AES法已发展成为一种极 为普遍、适用范围广的常规分析方法并已广泛用于环境试样、岩石、矿物生物医学、金属与合 金中数十种元素的测定

中国科学技术大学：《物质成分光谱分析》课程教学课件（讲稿）电感耦合等离子体原子发射光谱法（01 发射光谱的产生 02 等离子体发射光谱的激发机理）