热力学基础第14章相对论第15章量子物理附录：物理学家诺贝尔物理学奖获得者及得奖项目诺贝尔物理学奖详

章多光束干涉与光学薄膜第五章光的衍射第七章光的偏振与晶体光学基础参考教材：《物理光学》梁全廷主编（

动和力，动量守恒能量守恒，热力学基础，稳恒磁场，机械振动，量子物理等十二部分，课件内容丰富有条理，

9章振动第10章波动第11章光学第12章气体动理论第13章热力学基础第14章相对论第15章量子物理

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4.1 多晶硅半导体的物理基础 4.2 LTPS TFT的工作原理与特性 4.3 LTPS TFT中的关键材料技术 4.3.1 多晶硅薄膜制备技术 4.3.2 绝缘层技术 4.3.3 掺杂与激活 4.4 非晶硅晶化技术

5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.1.1 IGZO的结构与能带 5.1.2 a-IGZO中的电子态 5.1.3 CAAC-IGZO中的电子态 5.1.4 IGZO中的载流子传输机制 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.4.1 磁控溅射法 5.4.2 溶液法 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性

3.1 α-Si:H半导体的物理基础 3.2 α-Si:H TFT 的工作原理与特性 3.3 α-Si:H TFT中的关键材料 3.4 α-Si:H TFT 电性能的稳定性

在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基体上,形成薄膜或涂层的过程 称为物理气相沉积