2.1物理气相沉积(PVD) 2.1.1物理气相沉积原理 在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基 体上,形成薄膜或涂层的过程称 为物理气相沉积
2.1物理气相沉积(PVD) 2.1.1 物理气相沉积原理 在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基 体上,形成薄膜或涂层的过程称 为物理气相沉积
三种PVD方法对比 项目 真空蒸镀阴极溅射、离子镀 粒子能量 0.1-1ev|1-10ev 数百一数千ev 沉积速度 0.1-75 0.01-0.50.1-50 u m/mim 附着性 般 相当好非常好 绕射性 不好 好 好
三种PVD方法对比 项目 真空蒸镀 阴极溅射 离子镀 粒子能量 0.1-1ev 1-10ev 数百-数千ev 沉积速度 μm/mim 0.1-75 0.01-0.5 0.1-50 附着性 一般 相当好 非常好 绕射性 不好 好 好
2.2真空蒸镀 2.2.1金属蒸发热力学 压 临界点 力 MP 固相区 液相区 相点 latm 气相区 温度K
2.2真空蒸镀 2.2.1金属蒸发热力学 固相区 液相区 气相区 临界点 三相点 温度K 压 力 1atm MPa