综述了钨冶炼渣中有用金属回收利用现状与研究进展，介绍了黑钨和白钨的冶炼工艺、钨、锡、钽、铌、钪回收工艺与理论、钨冶炼渣的减量化处理研究进展.重选和浮选工艺可回收钨锡，得到钨锡精矿后再进行冶炼，选矿工艺流程简单易工业生产且成本低，但适应性较差，对于较细物料无法有效回收，湿法冶金工艺可回收钨、锡、钽、铌、钪，适应性强但流程复杂，酸碱废水对环境影响大；钨冶炼渣减量化是综合利用的根本要求，目前主要用来制做水泥辅料、建筑胶砂、多孔材料、微晶玻璃等，介绍了目前减量化处理的研究现状.最后提出了问题与建议，钪钽铌稀有金属提取工艺的进步依赖萃取剂和离子交换树脂的发展，可利用材料领域内第一性原理和化学配位理论，研发选择性强的萃取剂和交换容量大的离子交换树脂，解决萃取剂选择性差、离子交换树脂交换容量小、废水量大的问题，从原子层面研究出相互作用机理，最终筛选出高效萃取剂及离子交换树脂.指出选冶联合工艺，开发短流程绿色提取技术、冶炼渣高附加值材料研制技术可能是今后研究的重点

1 化学反应速度、反应级数和活化能的测定 2 弱电解质电离常数的测定 3 氧化还原与电化学 4 银氨配离子配位数的测定 5 磺基水杨酸合铜配合物的组成及其稳定常数的测定 6 硫酸亚铁铵的制备和性质 7 三草酸合铁酸钾的制备和性质. 8 硫代硫酸钠的制备 9 水溶液中 Na+、K+、NH4+、Mg2+、Ca2+、Ba2+等离子的分离和检出 10 P 区元素重要化合物的性质 . 11 DS 区重要元素化合物的性质. 12 水溶液中 Ag+、Pb2+、Hg2+、Cu2+、Bi3+、Zn2+等离子的分离和检出 13 D 区元素重要化合物的性质 14 水溶液中 Fe3+、Co2+、Ni2+、Mn2+、Al3+、Cr3+、Zn2+等离子的分离和检出 15 阴离子定性分析63

1.以电解法分析金属离子时,为什么要控制阴极的电位? 解:由于各种金属离子具有不同的分解电位，在电解分析时， 金属离子又大部分在阴极上析出，因此需要控制阴极的电 位，以便不同金属离子分别在不同的电位析出，从而实现 分离的目的

钙拮抗药(calcium channel blocker)是指能选择 性地阻滞Ca2+经细胞膜上电压依赖性钙通道进入胞内、 减少胞内Ca2+浓度,从而影响细胞功能的药物。 与镁离子作用的比较 (1)选择作用于胞膜的Ca2+通道,阻滞外Ca2+的内 流而发挥药物作用;而镁离子可直接对抗钙离子作用 ,即化学性竞争对抗作用。 (2)无钙离子相反的作用

一、膜电位产生的原理 二、电位法测定pH的原理 三、离子选择电极的类型 四、离子选择电极性能的重要参数:检测限、响应斜率、响应时间和电位选择性系数。 四、常用的离子选择电极的定量方法:直接比较法、校正曲线法、标准加入法 五、电位滴定反应的类型及其指示电极的选择

采用双层辉光离子渗金属技术在纯铁表面进行Ni-Cr-Mo-Nb多元共渗.结果表明:双层辉光离子Ni-Cr-Mo-Nb多元共渗可以在工业纯铁表面形成合金元素成分呈梯度分布镍基表面合金层.对双层辉光离子Ni-Cr-Mo-Nb多元共渗存在成分离析现象从合金元素的扩散原理探讨了其产生的机制

对于典型的离子晶体,用U=qq-ld可以粗略估计晶格 能的相对大小,且U1→m.p↑;U→m.p↓ ，但对于: NaCl MgCl22ACl3il4r,q.相同;q+1r+↓→U个 ·实际mp.(℃)808714192(加p)-68 只能说明,从左→右,晶体类型已偏离典型的离子晶体。前面关于化学键的相对性亦可知,典型的离子晶体不多

探讨了ZnTiO3薄膜掺杂Cu元素对于薄膜性质、相变化与微结构之影响.实验是在一定温度下以射频磁控溅镀系统将铜沉积于ZnTiO3陶瓷靶上,控制沉积于ZnTiO3陶瓷靶上铜含量之后,再沉积掺杂铜的钛酸锌薄膜于SiO2/Si基板上.成长出来的薄膜经由ESCA分析得知铜的质量分数分别为0.84%、2.33%和2.84%.从XRD分析常温下掺杂Cu的ZnTiO3薄膜为非晶质态,经过600℃退火后,ZnTiO3薄膜则由非晶质态转变成Zn2Ti3O8结晶相,而未掺杂铜的ZnTiO3薄膜在600℃退火时并没有结晶相产生.ZnTiO3薄膜经过900℃退火后,Zn2Ti3O8相分解成Zn2TiO4相和TiO2相,且ZnTiO3晶格常数因为Cu离子置换至Zn离子的位置有变小的趋势.由TEM分析证实Cu离子与Zn离子的置换,导致晶格应变产生双晶缺陷.经由XRD、SEM和TEM分析得知掺杂太多的铜会抑制TiO2相的生成,而随着过多的Cu析出,晶体平均晶粒慢慢变小晶格应变也随之降低,以致晶格常数回复往原来晶格常数方向趋近

配离子与外配位体的结合一般是离子键且内、外界之间一般还是强酸强碱盐因此在极性溶剂如水中,内界、外界很容易电离且一般还都是易溶强电解质但是配离子却不同,存在 (一)解离平衡与平衡常数在水溶液中:

为了提高钛表面硬度和耐磨性，采用辉光放电等离子渗氧技术对钛进行表面处理．结果表明，渗氧层厚度与氧分压、温度和时间呈明显的对应关系．特别是，在空心阴极辉光放电条件下，离子轰击会加强氧的离子化，促进渗氧，有助于低价态氧化物的形成．在表层所形成的TiO其硬度达到或接近TiN的硬度水平．