静电场（一种特殊物质）知识结构 电 场 强 度 静电场描述 相互作用 电 势 能量 基本规律 导体 电介质 高 斯 定 理 环 流 定 理 静电场的性质 基 本 规 律 电 容 器 基 本 规 律 高 斯 定 理

本文把分析大规模线性网络用的广义分裂法推广成分析大规模线性网络用的非线性广义分裂法。另一方面,非线性广义分裂法是非线性分裂法的一个推广。后者使用f混合基,而且仅适用于其y子网络N1与z子网络N2之间无耦合的非线性网络。前者使用广义混合基,而且适用于其y子网络N1与Z子网络N2之间有耦合的非线性网络

文章介绍了集成光开关的发展现状及核心技术,包括采用氧化硅I-V族半导体材料和硅材料来制作光开关的进展以及各种技术的特点。其中硅基集成光开关具有结构紧凑、功耗小、成本低以及与互补型金属一氧化物一半导体(CMOS)工艺兼容的优势,适合大规模光开关制作和量产,具有潜在的巨大市场商用价值。文章重点介绍了实现硅基光开关的核心单元器件以及几种代表性光开关阵列并对光开关状态监控和调节以及光电封装做了阐述

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一、直接计算DFT的问题及改进途径 二 、按时间抽选的基-2FFT算法 三 、按频率抽选的基-2FFT算法 四 、IFFT算法

为提高不锈钢材料的耐冲蚀磨损性能,以Ni46合金粉末为原料,采用等离子熔覆工艺在不锈钢1Cr18Ni9Ti基材上制备镍基合金涂层,分析了熔覆层的显微组织以及物相形貌和相结构等,测定了涂层的显微硬度.使用旋转圆盘实验机研究了Ni基等离子熔覆合金涂层在砂浆中的冲蚀行为.结果表明:材料的冲蚀磨损性能受到材料基本力学性能的限制,高硬度镍基涂层的抗冲蚀性能最好,在相同实验条件下其磨损率由小到大排列顺序为镍基涂层>0Cr13Ni5Mo>1Cr18Ni9Ti;镍合金层中奥氏体基体的固溶强化和硬质相有效抵御砂砾的冲击,是Ni基等离子熔覆合金层具有高抗冲蚀性能的主要原因

在既有的研究工作基础上,给出了更为合适的锻造、轧制等工艺参数和工艺方法.利用普通的锻造和轧制设备,成功制备了良好的约 1.5 mm厚的 Fe3Si基合金薄板,制备过程中典型的微观组织变化如下:铸态组织的晶粒较大且很不均匀;锻造组织为通过再结晶而形成的晶粒较细且均匀的等轴状组织;轧态组织为纤维组织

以等离子弧为热源,采用类似激光表面改性的办法,研究了重熔处理对Ni基自熔合金组织和耐磨性的影响。经等离子弧扫描重熔,喷焊层表面形成重熔激冷层,该层基体组织由γ-Ni转变为化合物Cr0.7Fe0.36Ni2.90,并形成晶粒度很小的微晶组织。重熔后试样的耐磨粒磨损与粘着磨损性能提高,且880W重熔较440W重熔试样的耐磨粒磨损性能提高程度更大

以CSP流程生产的含B和无B的SPHD冷轧基板为实验材料,运用拉伸实验、金相观察、SEM、TEM和EBSD手段,对比分析了两种钢的力学性能、组织、析出物、位错密度和晶体学取向的变化.研究表明:微合金元素B的加入明显使SPHD冷轧基板的铁素体晶粒粗大化,钢中有粗大的析出相粒子产生,且位错密度下降,从而引起屈服强度的降低.采用背电子散射EBSD技术分析了无B和含B钢的晶体学取向,其取向主要为大角度晶界,且无B钢中存在着大量的亚晶

第一节 胺 • 胺（amine）：指氨（NH3）分子中的氢原子被烃基取代而生成的化合物。 第二节 酰胺 酰胺（amide）在结构上可看作是羧酸分子中的 羟基被氨基（-NH2）或羟氨基（-NHR、-NRR’）取代后的产物；也可看作是氨或胺分子中的氢原子被酰基取代后的产物