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1、理解杨氏模量的物理意义 2、掌握用拉伸法测金属丝杨氏模量的原理及方法
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3.3.1 自由锻工艺设计 3.3.2 锤模锻工艺设计 3.3.3 冲压工艺设计(自学)
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三、铬的化合物 (一)铬酸盐与重铬酸盐: 1. CrO3s+H,o- H,CrO
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5.1 概述 5.2 自然金属元素矿物 5.3 自然半金属元素矿物 5.4 自然非金属元素矿物
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通过本章学习,将能够: 1. 解释金属化; 2. 列出并描述在芯片制造中的6种金属,讨论它们的性能要求并给出每种金属的应用; 3. 解释在芯片制造过程中使用金属化的优点,描述应用铜的挑战; 4. 叙述溅射的优点和缺点; 5. 描述溅射的物理过程,讨论不同的溅射工具及其应用; 6. 描述金属CVD的优点和应用; 7. 解释铜电镀的基础; 8. 描述双大马士革法的工艺流程
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第5章电化学与金属腐蚀 5.1原电池 一、组成和反应
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3.1.1金属塑性变形的机理 3.1.2 金属的加工硬化、回复和再结晶 3.1.3 金属的冷成形、热成形及温成形 3.1.4 锻造比和锻造流线 3.1.5 材料的塑性成形性 3.1.6 金属塑性成形的基本规律
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2.1.1 金属液的充型能力 2.1.2 金属的收缩特性 2.1.3 常用铸造合金的铸造性能
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1.4.1 钢 1.4.2 铸铁 1.4.3 非铁金属材料 1.4.4 粉末冶金材料
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