第1章 概论 ◼ 1、1 水资源与水污染现状 ◼ 1、2 水污染类型 ◼ 1、3 废水中的污染物种类与水质指标 ◼ 1、4 水质控制标准 ◼ 1、5 废水水质控制方法 第 2 章 预处理 ◼ 2.1 水质和水量调节 ◼ 2.2 格栅和筛网 第 3 章 沉淀与上浮 3.1 沉淀的基础理论 3.2 沉砂池 3.3 沉淀池 3.4 隔油和破乳 3.5 浮上法 第4章 化学混凝法 4.1 胶体结构及其脱稳机理 4.2 混凝剂及其作用机理 4.3 混凝条件及混凝试验 4.4 混凝设备 第5章 中和法 5.1 概述 5.2 基本原理 5.3 酸性废水的中和处理 5.4 碱性废水的中和处理 第6章 化学消毒法 6.1 概述 6.2 氯消毒法 6.3 其它化学消毒法 第7章 氧化还原法 7.1 基本原理 7.2 药剂氧化法 一、空气(及纯氢)氧化法 二、臭氧氧化法 三、高锰酸盐氧化法 四、光辐射或放射性辐射强化氧化过程 7.3 药剂还原法 一、还原法去除六价铬 二、还原法除汞(Ⅱ)

1 氧化还原反应的基本概念 2 氧化还原反应方程式的配平 3 电极电势及其应用 4 件电极电热 5 氧化还原滴定法

7.1概述 7.2氯氧化与消毒 7.3臭氧氧化与消毒 7.4其他氧化与消毒方法 7.5高级氧化概述

5.4 常用的氧化还原滴定法 5.4.1 高锰酸钾法 5.4.2 重铬酸钾法 5.4.3 碘量法 5.4.4 溴酸钾法及铈量法 5.5 氧化还原滴定的计算

第一节 常用氧化剂 第二节 氧化反应

连续环式反应池（Continuous Loop Reactor，简称 CLR), 通常称为氧化沟。它是由荷 兰卫生工程研究所(TNO)在五十年代研制成功的。第一家氧化沟处理厂于 1954 年在荷兰的沃 绍本（Voorshopen）投入使用，它是由该所的帕斯维尔（A. Pasveer)博士设计的，服务人口 为三百六十人。这是一种间歇流的处理厂，其中氧化沟同时用作二次沉淀池。由于帕斯维尔 博士的贡献，这项技术又被称为帕斯维尔沟。 氧化沟最初应用于荷兰，而今，它已成为欧洲、大洋洲、南非和北美洲的一种重要污水 处理技术

大洋多金属矿是以铁锰氧化物为主相的复杂矿物，利用大洋多金属矿三相氧化法提取锰，并使铁铜钴镍富基于渣中的方法是富集分离有价金属的新途径．最佳反应条件是：温度240℃；时间2h；碱锰的物质的量的比为45；通气量0．5m3·h-1；锰粉粒度为-200目．铁镍的固相富集率接近100%，铜钴大于93%．液相氧化反应后Fe，Cu，Co，Ni等金属基本上被分配到渣中。赋存在矿物中的变价金属氧化物对锰酸钾的反向分解有促进作用，初步实现了这些金属与Mn的分离．

采用常温镀膜技术在浮法玻璃表面沉积了不同方块电阻的氧化锌铝(Al-doped zinc oxide,AZO)透明导电膜,建立了透明导电膜的雷达散射截面(radar cross section,RCS)测试和研究方法;提出了基于雷达散射截面均值的相对反射率概念,结合方块电阻和可见光透过率综合分析了氧化锌铝透明导电膜的电磁散射特性.在微波暗室对不同方块电阻的氧化锌铝透明导电膜进行了测试,得到了10 GHz和15 GHz入射频率,水平(horizontal horizontal,HH)、垂直(vertical vertical,VV)极化的雷达散射截面曲线;从飞行器座舱隐身角度出发,研究了前向20°和60°角域雷达散射截面曲线分布特点,并分析了雷达散射截面均值影响特性;基于氧化锌铝透明导电膜雷达散射截面测试结果,研究了方块电阻对雷达散射截面相对反射率和可见光透过率的影响规律.研究表明,方块电阻较低时雷达散射截面曲线分布特性与对应金属相似,方块电阻增大时,前向两个角域内的RCS均值减小,隐身性能减弱,雷达散射截面相对反射率降低而可见光透过率增加,相对反射率降低速率大小与方块电阻相关,合适的方块电阻可同时满足隐身及采光需求.暗室测试结果表明,在满足座舱可见光透过率前提下,氧化锌铝透明导电膜方块电阻为18~45 Ω时,具有外形隐身作用,方块电阻18 Ω为最优,对应RCS相对反射率Rem2和RedB分别为84%和0.73 dB

5.4 常用的氧化还原滴定法 5.4.1 高锰酸钾法 5.4.2 重铬酸钾法 5.4.3 碘量法 5.4.4 溴酸钾法及铈量法 5.5 氧化还原滴定的计算

研究了氧化锆增韧氧化铝复相陶瓷中氧化锆相分布的分形维数随氧化锆含量、烧结温度、保温时间的变化规律,通过与该材料的力学性能比较,该变化规律不但反应了相分布特征,而且与力学性能的变化规律一致。提出了利用相分布的分形维数作为一个参量来定量分析相分布对力学性能的影响的可能性