1. 干扰滤波的概念 2. 干扰滤波器的分类 3. 干扰滤波器的特性参数 4. 基本滤波原件 5. EMI滤波器 6. 干扰滤波器的应用

第一节 涂料成膜机理 General Mechanisms For Drying And Crosslinking Of Coatings 第二节 涂料干燥方法 Drying Method 第三节 烘干设备 Drying/Stoving Equipment 第四节 涂膜干燥方式的选择

• 克隆的基本原理 • 史上最著名的羊-多利 • 克隆技术的应用 • 干细胞的概念 • 干细胞的分类 • 胚胎干细胞的伦理问题 • 横空出世的iPS细胞 • 干细胞治疗

湿空气的热力学性质，湿空气的湿—焓图及其应用，湿物料的基本性质，湿物料常压热风干燥过程的机理和计算。重点掌握湿空气的热力学性质及湿—焓图的应用，干燥系统的物料衡算和热量衡算，干燥特性曲线，干燥速率方程及应用

掌握影响药液浓缩的因素 掌握常用的浓缩方法、原理及其选用 掌握影响药物干燥的因素 掌握常用的干燥方法、原理及其选用 熟悉常见的浓缩、干燥设备

在实际分析工作中，遇到的样品往往含有多种组 分，进行测定时彼此发生干扰，不仅影响分析结果的 准确度，甚至无法进行测定。为了消除干扰，比较简 单的方法是控制分析条件或采用适当的掩蔽剂。但是 在许多情况下，仅仅控制分析条件或加入掩蔽剂，不 能消除干扰，还必须把被测元素与干扰组分分离以后 才能进行测定。所以定量分离是分析化学的重要内容 之一

• 干细胞的概念 • 干细胞的分类 • 胚胎干细胞的伦理问题 • 横空出世的iPS细胞 • 干细胞治疗

《物理光学》课程教学资源（PPT课件）光的干涉和干涉仪（产生干涉的条件、双光束干涉的基本理论与杨氏干涉系统）

基于统计分析方法,导出了传统并行干扰消除检测器(PIC)、部分干扰消除检测器(P-PIC)和最小均方误差检测器(MV-PIC)的输出均值和方差.结果表明:与传统PIC检测器比较,P-PIC检测器降低了软判决量的均值和方差的偏差;选择恰当的部分干扰消除系数,可以使MV-PIC的输出均值增大、方差减小、误码性能优于PIC检测器

应用扫描Kelvin探针原位研究盐雾和干湿周浸环境中缺陷涂层膜下的腐蚀行为.结果显示:在两种腐蚀环境中,缺陷涂层均分为缺陷、阴极剥离及完好涂层区域;Kelvin电位的分布相同,缺陷处最高,完整涂层处最低.Kelvin电位分布峰的直径随时间的延长而增大,表明剥离区域扩大.干湿周浸环境中,Kelvin电位的最大值Vmax随时间变化不明显,Vmin在逐渐下降后达到谷值,随后升高;盐雾环境中由于电解质溶液持续扩散和盐雾颗粒极强的腐蚀性,Kelvin电位随时间的变化规律为Vmin在起始阶段达到最小值,随后升高.由Vmax-Vmin的变化规律得出,干湿周浸环境下腐蚀倾向性在试验开始5h后达到最大,而在盐雾环境下,试验开始阶段腐蚀倾向性就达到最大,且要高于干湿周浸环境