连续环式反应池（Continuous Loop Reactor，简称 CLR), 通常称为氧化沟。它是由荷 兰卫生工程研究所(TNO)在五十年代研制成功的。第一家氧化沟处理厂于 1954 年在荷兰的沃 绍本（Voorshopen）投入使用，它是由该所的帕斯维尔（A. Pasveer)博士设计的，服务人口 为三百六十人。这是一种间歇流的处理厂，其中氧化沟同时用作二次沉淀池

1. 为什么氟的电子亲合能比氯小？为什么氟与氯比较仍然是强的氧化剂？ 2. 从下列几方面考虑氟在卤素中有哪些特殊性？ （1）氟呈现的氧化态与其他卤素是否相同？ （2）F2 与水和碱溶液的反应与其他卤素有什么不同？ （3）制备 F2 时能否采用一般氧化剂将 F－离子氧化？为什么？

常压低温条件下在NH3-（NH4）2SO4体系中使用过硫酸铵作为氧化剂对硫氧混合铅锌矿中的锌进行浸出实验，系统研究了搅拌速度、浸出剂浓度、氧化剂浓度与温度对于锌浸出率的影响.结果表明，在最优条件下锌的浸出率可达93.2%，且浸出过程中几乎没有其他离子进入溶液，实现了锌的选择性高效浸出，从而简化了后续的浸出液净化与材料制备过程.动力学研究表明，硫氧混合铅锌矿中锌的氧化氨浸过程遵循固体产物层扩散控制的未反应核收缩模型，浸出反应的表观活化能为17.89 kJ·mol-1

第九章氧化还原滴定法 第一节绪论 一、氧化还原滴定法:以氧化还原反应为基础的滴定 分析方法 二、实质:电子的转移 三、特点: （1)机理复杂、多步反应 （2)有的程度虽高但速度缓慢 （3)有的伴有副反应而无明确计量关系 四、分类: 碘量法、高锰酸钾法、重铬酸钾法、亚硝酸钠法、溴量法、铈量法 五、应用:广泛,直接或间接测定无机物、有机物

§1 概述 §2 氧化还原反应 §3 氧化还原反应的基本原理 §4 碘量法 §5 高锰酸钾法 §6 亚硝酸钠法 §7 其他氧化还原滴定法

6.1概述 6.2氧化还原平衡和反应速率 6.3氧化还原滴定曲线 6.4氧化还原滴定中的指示剂 6.5高锰酸钾法 6.6K2CrO4法 6.7碘量法

本工作研究了添加元素Te、In、Sn、Al和Ni对内氧化Ag-4-8.5wt%Zn合金组织和性能的影响。少量Te或Te、In、Sn均能改善合金组织状态,使合金中氧化物呈粒状而且分布均匀;Al、Ni则不能改变这类合金中氧化物的针状特征。结果指出,添加适当的元素和控制ZnO含量能获得高抗熔焊性、高抗腐蚀性和低的接触电阻等开关特性优异的触头材料

铁水预处理脱钛已被应用到实际生产中,铁水中的硅、锰、碳、磷在脱钛的同时都存在被氧化的可能.热力学计算和热模拟实验表明,铁水温度越低越有利于脱钛反应的进行.脱钛时,铁水中硅含量随钛含量的变化呈正比例下降,锰、磷含量变化与钛含量变化关系不大.铁水中碳的氧化主要受铁水温度影响,温度越高碳越容易氧化.要做到深脱钛,需要控制得到更低的铁水硅含量、更低的铁水温度以及抑制碳的氧化

1氧化沟的发展概况 氧化沟( Oxidation Ditch)污水处理工艺是由荷兰卫生工程研究所在20世 纪50年代研制成功的。第一家氧化沟污水处理厂将曝气、沉淀和污泥稳定等处 理过程集于一体,间歇运行,BOD去除率高达97%,管理方便,运行稳定,该 技术被称为 Pasveer沟

应用微弧氧化这一高新表面改性技术在LY12铝合金表面形成陶瓷膜层,并对其在常温下的耐磨性能进行了对比测试与分析。实验结果表明,微弧氧化陶瓷膜层的表面磨损外观比较均匀,磨损痕迹也比较轻微,其表面硬度达到2500HV,是基体的10倍以上。由此可见,微弧氧化技术大大改善了铝合金表面耐磨特性和硬度