研制了一种具有相当遮盖力和白度的新型分相乳浊釉,其主要成分为SiO2、B2O3、Al2O3、CaO、MgO、ZnO、K2O和Na2O.通过电子显微镜观察,证实这种釉是分相乳浊釉.引用玻璃分相理论进行分析,探讨其产生分相现象的原因和其光学乳浊原理

利用光学显微镜和扫描电镜并结合电子探针和化学分析,研究了稀土在离心灰铸铁管中的作用。结果表明,在保证灰口铸铁的先决条件下,普通离心灰铸铁管的组织,尽管可随基本化学成分和铸造条件的不同而变化,但其特征是组织粗大且很不均匀,并有明显的分层现象。加入微量稀土后,无论显微组织和宏观组织都显著趋于细化和均匀化,同时,化学成分的偏析也有明显改善

§14-1 光是电磁波 §14-2 光源 光波的叠加 §14-3 杨氏干涉实验 §14-4 光程与光程差 §14-5 薄膜干涉 §14-6 迈克耳逊干涉仪 §14-7 惠更斯－菲涅耳原理 §14-8 单缝夫琅和费衍射 §14-9 光栅衍射及光栅光谱 §14-10 偏振光和自然光 §14-11 起偏和检偏 马吕斯定律 §14-12 反射和折射产生的偏振光 §14-13 双折射现象

§14-1 光是电磁波 §14-2 光源 光波的叠加 §14-3 杨氏干涉实验 §14-4 光程与光程差 §14-5 薄膜干涉 §14-6 迈克耳逊干涉仪 §14-7 惠更斯－菲涅耳原理 §14-8 单缝夫琅和费衍射 §14-9 光栅衍射及光栅光谱 §14-10 偏振光和自然光 §14-11 起偏和检偏 马吕斯定律 §14-12 反射和折射产生的偏振光 §14-13 双折射现象

第2章光纤和光缆 2.1光纤结构和类型 2.1.1光纤结构 2.1.2光纤类型 2.2光纤传输原理 2.2.1几何光学方法 2.2.2光纤传输的波动理论

对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等

第一章半导体材料导电型号、电阻率、少数载流子寿命的测量 第二章化学腐蚀一光学方法检测晶体缺陷和晶向 第三章霍尔系数、迁移率和杂质补偿度的测量 第四章外延片的物理测试 第五章红外吸收光谱在半导体测试技术中的应用 第六章扫描电子显微镜及其在半导体测试技术中的应用 第七章透射电子显微镜晶体缺陷分析 第八章Ⅹ射线在半导体测试技术中的应用 第九章结电容和CV测试技术 第十章半导体中痕量杂质分析

杰出的英国物理学家，经典 物理学的奠基人．他的不朽巨著 《自然哲学的数学原理》总结了 前人和自己关于力学以及微积分 学方面的研究成果，其中含有三 条牛顿运动定律和万有引力定律, 以及质量、动量、力和加速度等 概念．在光学方面，他说明了色 散的起因，发现了色差及牛顿环， 他还提出了光的微粒说．

11-0教学基本要求 11-1相千光 11-2杨氏双缝干涉实验劳埃德镜 11-3光程薄膜干涉 11-4劈尖牛顿环 11-5迈克耳孙干涉仪 11-6光的衍射 11-7单缝衍射

一、德布罗意假设 (1924 年) 光学理论发展历史表明，曾有很长一段时间，人们徘徊于光的粒子性和波动性之间，实际上这两种解释并不是对立的，量子理论的发展证明了这一点. 20世纪初发展起来的光量子理论，似过于强调粒子性，德布罗意企盼把粒子观点和波动观点统一起来，给予“量子”以真正的涵义