在局部腐蚀微区中,金属离子水解而造成PH下降的事实虽已由不少研究工作证实,但因研究技术上的困难,这方面原位的、定量的测量数据尚不充分,现在的数据多为模拟实验提供。本文把生理学上曾得到应用的钨电极引入局部腐蚀中来,较为系统地究究了钨电极的电位与溶液pH值的线性关系,钨电极的电位随温度、时间的变化,以及腐蚀介质和某些腐蚀研究中常见的离子对钨电极的电位的影响。证明:在PH值为0.5~5.0的范围内,钨电极的电位与溶液PH值有良好的线性关系:EP=+a×pH。式中a、b为与电极表面状态有关的常数,但a的数值一般在f0mv/pH左右。温度系数<2mv/度。Cl-、SO42-、NH4+、Na+、Mg2+、Mn2+、Zn2+、Al2+、Ni2+对测定干扰很少,Cr3+及Fe3+在浓度不大时干扰也较小,因此钨电极与微参比电极配合,可以应用在局部腐蚀的微区测量中

1、试确定图 1-1 中 2、如右图所示电路，电流 I=（ ） 3、如右图所示电路，电流 I=（ ）

2.1 有两个TTL与非门G1和G2，测得它们的关门电平分别为: UOFF1=0.8 V, UOFF2=1.1V；开门电平分别为：UON1=1.9V, UON2=1.5 V。它们的输出高电平和低 电平都相等，试判断何者为优（定量说明）。 2.2 试判断图题2.2所示TTL电路能否按各图要求的逻辑关系正常工作？ 若电路的接法有错，则修改电路。 图题 2.2

【输入参数】: 建筑物防雷类别=第一类防雷建筑物 滚球半径(hr)=30(m) 避雷线的高度(h)=20(m) 被保护物高度(hx)=5(m 【计算过程】:

一、三论与流论气体放电过程和自电条的观点有何不同 这两种理论用于何种场 二、=755mmh=3的条下一气家的击压

已知Re1=Re2=100=100，VBE =0.6V

10-5 已知U2=20 UO(AV)=0.9U2=0.9×20＝18V IO(AV)= UO(AV)/ RL=18/1=18mA ID(AV)= IO(AV)/2=18/2=9mA URM = 2U2 = 1.41 20 = 28.2V

一、例题精解 【例题2.1】在图2.2所示方框图中,N是一线性无源网络。当U1=1V,2=1A时,U3=0V:当U1=10V,2=0A时,U3=1V.试求当U1=0V,I2=10A时,U3=? 【解】应用叠加原理计算,则U3=U3+U3。其中3=AU是U1单独作用时的分量,U3=B2是l2单独作用时的分量,即

采用划破电极技术,研究了不锈钢去膜表面在氯化镁溶液中的钝化过程。不锈钢在氯化镁溶液(14%,80℃)中钝化时的真实电流衰减规律为:i(t)=C1exp(-a1t)+C2exp(-a2t)式中第一项反映吸附膜生长速度,第二项反映氧化膜生长速度。不锈钢去膜表面在氯化镁溶液中钝化时膜成长的规律符合高电场离子传导的膜生长机理

一、例题精解 【例题171】如图171所示运算放大器电路中,已知u1=1V,u12=2Vl3=3V,ai4=4V,R1=R2=2k2,R3=R4=Rp=1kg,求l0=