6-1 概述 6-2 配位平衡 6-3 副反应系数和条件形成常数 6-4 配位滴定法基本原理 6-5 金属离子指示剂 6-6 提高配位滴定选择性的途径 6-7 配位滴定方式及其应用

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

4-1概述 4-2配位平衡 4-3副反应系数和条件形成常数 4-4配位滴定法基本原理 4-5金属离子指示剂 4-6提高配位滴定选择性的途径 4-7配位滴定方式及其应用

配位滴定：以配位反应为基础的滴定分析方法(complex-formation titration)。 用于配位滴定的反应要求： 1 满足滴定分析对反应的要求 2 形成配合物稳定，否则不易得到明显终点 3 一定条件下配位数固定

§1 概述 §2 配位滴定法的基本原理 §3 滴定条件的选择 §4 配位滴定的应用

一、配位滴定方式 1. 直接滴定法：将试样处理成溶液后直接用EDTA标准溶液滴定

配位滴定中，被测金属离子M与Y的配位反应为主反应，但M， Y及配合物MY常发生副反应，影响主反应的进行，这些副反 应可用如下通式表示：

配位滴定：以配位反应为基础的滴定分析方法 (complexometric titration)。 配合物根据配体类型的不同，可分为无机配合物 和有机配合物。无机配合物不够稳定，且存在逐级 配位现象，不适宜滴定

一、 配位化合物的定义与组成 内界:中心体(原子或离子)与配位体,以配位键成键 外界：与内界电荷平衡的相反离子

一、选择性滴定可能性判断 当M与N两种金属离子共存时，它们均可与EDTA配 位，要准确滴定M，而N离子不干扰。经推导计算 ，得： lgK5 (CM>CN) 若不能满足条件，要采用方法提高滴定的选择性