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《PC组装与维护》课程电子教案(PPT教学课件)第10章 声卡与音箱
文档格式:PPT 文档大小:365KB 文档页数:31
声卡和音箱 声卡:要求掌握声卡的分类、声卡的结 构、AC‘97标准、声卡的主要参数、了解 常见音效处理芯片。 音箱:掌握音箱的分类、多媒体音箱的 结构、音箱的主要性能参数。 熟练掌握独立声卡的安装、声卡驱动 程序的安装、音箱与声卡的连接
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西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第六章 工艺良品率
文档格式:PPT 文档大小:218KB 文档页数:5
一、概述 高水平的工艺良品率是生产性能可靠的芯 片并获得收益的关键所在。本章将简单介绍影 响良品率的主要工艺及材料要素,并对良品率 测量点做出阐述。 维持及提高良品率对半导体工业至关重要 ,因为半导体制造工艺的复杂性,以及生产一 个完整封装器件所需要经历的庞大工艺制程, 是导致这种对良品率超乎寻常关注的基本原因 。这两方面的原因使得通常只有20%至80%的芯 片能够完成生产线全过程,成为成品出货
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西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第二章 半导体材料
文档格式:PPT 文档大小:444.5KB 文档页数:7
第二章半导体材料 一、半导体材料 1.目前用于制造半导体器件的材料有: 元素半导体(sie) 化合物半导体(GaAs InSb) 2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体,其纯度在999%(8~10个9)。 3.掺杂半导体:半导体材料对杂质的敏感性非常强,例如在Si中掺入千万分之一的磷(P)或者硼(B),就会使电阻率降低20万倍
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西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第七章 氧化
文档格式:PPT 文档大小:2.26MB 文档页数:40
一、概述 表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备
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西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第一章 半导体工业介绍
文档格式:PPT 文档大小:1.77MB 文档页数:15
第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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《计算机原理》 第四章 存储子系统
文档格式:PPT 文档大小:105KB 文档页数:6
第四章存储子系统 本章需解决的主要问题: (1)存储器如何存储信息? (2)在实际应用中如何用存储芯片组成具有一定容量的存储器? 第一节概述 存储器的分类情况 1.按存储器在系统中的作用分类 (1)主存(内存)
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上海交通大学:《微机原理与接口技术》课程PPT教学课件(微型计算机技术)第六章 输入输出
文档格式:PPT 文档大小:2.2MB 文档页数:70
第6章输入/输出 6.1口入/口出概述 6.2简单的输入/输出接口芯片 6.3数据传送的控制方式 6.4可编程DMA控制器8237A
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上海交通大学:《微机原理与接口技术》课程PPT教学课件(微型计算机技术)第十章 微型计算机系统实用接口技术
文档格式:PPT 文档大小:1.88MB 文档页数:135
第10章微机系统实用接口技术 10.1主板 10.2芯片组 10.3光盘存储器 10.4硬盘接口 10.5B与IEEE1394 10.6 AGP 10.7显示卡 10.8多媒体计算机 10.9Plug&play即插即用(P&P)
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《计算机系统基础》 第七章 I/0接口电路
文档格式:PPT 文档大小:804.5KB 文档页数:37
第七章I/0接口电路 7-1单片机并行接口PI 7-2定时/计数器电路CTC 7-3可编程并行接口芯片 7-5串行I/0接口SI0
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西安电子科技大学:《EDA技术及应用》课程教学资源(PPT教材课件)第五章 EDA实验开发系统
文档格式:PPT 文档大小:2.08MB 文档页数:81
5.1 GW48型EDA实验开发系统原理与使用介绍 5.2 GW48实验电路结构图 5.3 GW48系统结构图信号名与芯片引脚对照表 5.4 GW48型EDA实验开发系统使用示例
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