1-1什么是数控机床?它由哪些部分组成? 答:数控机床是一种利用数控技术,准确按照事先安排的工艺流程,自动实现规定 动作的金属加工机床。它由输入介质、数控装置、伺服系统、反馈系统和机床等部分组 成。 题型变换:数控机床的输入介质是指 ①光电阅读机 ②穿孔机 ③穿孔带、磁带和软磁盘 ④零件图纸和加工程序单 答:③

第三章过滤与膜分离技术 一、过滤:借助一定孔径的过滤介质,将不同大小颗粒物质分离的方法。 二、主要驱动力为压力差。 三、常压过滤、加压过滤、减压过滤 四、过滤介质:滤纸、滤布、纤维、多孔陶瓷、烧结金属等 五、助滤剂:硅藻土、活性炭、纸粕等 条件控制:压力差、粘度、浓度、温度、pH等

为了解天津浅层孔隙含水介质对铁的吸附特征和铁在地下水中的迁移运动规律,利用宝坻和大港地区两个钻孔岩芯配制7个土样,以FeSO4溶液模拟污染源,进行了室内静态吸附实验与动态淋滤实验.实验结果表明:该地区浅部不同岩性地层对铁的吸附模式符合Langmuir等温吸附模式;铁在淡水区含水层中迁移4m需要3500d,在咸水区含水层中迁移4m需要4400d,个别地点铁的超标不会造成地下水大面积污染

在运用等效连续介质模型分析了裂隙岩体渗流场时,综合考虑并比较了单孔压水试验和节理裂隙统计取得的渗透系数,获得了能较好反映原位地质环境的修正渗透张量.将这种确定渗透张量的方法应用于某铁矿边坡工程渗流场分析中,取得了较好的结果

武警学院：《大学物理学》第九章 静电场中的导体和电介质 9.1 静电场中的导体 9.2 电容、电容器 9-3 静电场中的电介质 9-5 电容器的能量和静电场的能量

采用交流阻抗技术研究了钝化304不锈钢在pH8.4,H3BO3(0.2Mol/t-Na2B4O7(0.05mol/1)及pH9.2,Na2B4O7(0.05mol/l)的含氯介质中的点蚀行为;提出了点蚀的反应机理及发展阶段的界面等效电路模型,并认为在点蚀的发生和发展阶段都可能有复合物(MOHCl)及其进一步的吸附产物(MOHCl-Cln-)ad形成

用动电位极化方法研究了3种不同化学镀工艺得到的Ni-P非晶态合金镀层,在1mol/1NaOH碱性介质中的阳极极化行为,并通过XPS分析了不同极化电位下的表面膜.结果表明:在所研究的体系中不存在随P增加阳极溶解电流下降的规律;尽管合金表面存在H2PO2-和PO4-离子,但并没有有效地抑制Ni-P合金的阳极溶解。P的强烈的水化作用可能是导致非晶态Ni-P合金的阳极溶解电流比纯Ni更大的主要原因

对纳微米级孔隙多孔介质内的气体流动进行了研究.利用克努森数划分流态，绘制了流态图版，阐明了不同区域的流动特征.基于Beskok-Karniadakis模型，对渗透率校正系数进行了改进，引入多项式修正系数，将Beskok-Karniadakis模型简化为二项式方程，并利用最小二乘法分段拟合得出多项式修正系数的取值.模型对比显示，简化后的模型具有较高的精确度.应用此模型推导出了纳微米级孔隙气体流量的计算公式.进行了室内微观渗流模拟实验，得到气体平面单向渗流规律，与由纳微米级孔隙气体流量公式计算所得渗流特征进行对比，结果显示本模型与实验数据拟合较好.采用本模型进行编程计算，对其影响因素进行分析，发现气体流量随压力平方差增加而增大，且增加趋势越来越快，并随多孔介质渗透率和克努森扩散系数的增加而增大

一、薄膜干涉 我们知道,两束光产生干涉的条件(又称相干条件)为: (1)频率相同;(2).相位差恒定;(3).光矢量振动方向相同我们讲的薄膜指的是由透明介质形成的厚度很薄的一层介质膜

研究了不锈钢去膜表面在氯化镁介质中的点腐蚀现象。去膜表面发生点蚀的临界电位低于膜覆盖表面发生点蚀的临界电位。去膜表面的点蚀主要在晶界和夹杂起源。点蚀形貌是敏锐的条纹状花样。根据作者提出的裸表面与氯化物介质反应步骤模型讨论了点蚀特征电位的意义以及裸表面点蚀形成的过程