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《固体物理导论》课程教学资源(课件讲稿)第一章 晶体结构及X射线衍射 第三节 晶列和晶面的表示 第四节 倒格子
文档格式:PDF 文档大小:722.09KB 文档页数:34
第三节 晶列和晶面的表示 第四节 倒格子 1.倒空间与正空间的几何关系 2.倒格矢 3.倒格子与正格子的关系
LiFePO4/CNT复合材料的制备及电化学性能
文档格式:PDF 文档大小:851.46KB 文档页数:5
采用溶胶凝胶-微波法制备LiFePO4/碳纳米管(CNT)复合正极材料.考察不同微波时间和CNT含量对其电化学性能的影响,并通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对样品的晶型结构和表面形貌进行表征.结果表明:掺CNT量为2%(质量分数)和微波18 min所得样品有较好的电化学性能;0.1C充放电的首次放电比容量为142 mAh·g-1,第10次循环的比容量为136 mAh·g-1
NiMn薄膜的无序有序转变
文档格式:PDF 文档大小:423.9KB 文档页数:3
研究了Si/Ta/NiMn/Al和Si/NiFe/NiMn/Al多层膜中NiMn薄膜经300℃ 5 h不同次数循环退火后的有序化情况,X射线衍射定量计算结果表明,高温循环退火能极大地促进NiMn薄膜的有序化、NiMn薄膜中有序相的含量随退火循环数的增加而持续增加,但含NiFe层的膜有序化过程要比无NiFe层时级慢.显然,NiFe对NiMn的有序化有阻碍作用.
共沉淀法制备负膨胀系数材料ZrW2O8
文档格式:PDF 文档大小:440.11KB 文档页数:3
以H2WO4和ZrOCl2·8H2O为原料,先采用共沉淀法制备出前驱物,再加热合成出了ZrW2O8粉末.用X射线衍射(XRD)对合成粉末进行物相分析,用扫描电子显微镜(SEM)分析粉末形貌,用差热-热重分析确定合成温度.结果表明:溶液pH值控制在2~3范围内,溶液中Zr4+和WO42-能同时发生沉淀;所得前驱物在1200℃反应1h,所得产物相主要为ZrW2O8,其粒度在100nm左右,且分布均匀
轧制工艺对帘线钢盘条织构的影响
文档格式:PDF 文档大小:718.46KB 文档页数:5
采用X射线衍射法对国内外四家钢厂帘线钢盘条的织构进行了对比研究.结果表明,国内外各钢厂盘条的织构存在明显差异,国内盘条轴向上的{111}织构强度大于国外盘条,然而盘条轴向上的{111}织构是硬取向,不利于盘条的拉拔.通过延长加热炉加热时间、提高加热温度和提高吐丝温度,可以使{111}织构的强度明显降低
金刚石表面的金属化
文档格式:PDF 文档大小:435.02KB 文档页数:5
用真空蒸镀法在金刚石表面镀覆Ti层,并经扩散处理使金刚石表面形成TiC膜,实现了金刚石表面的金属化.X射线衍射分析证实了TiC的存在,利用XPS定量分析验证了在金刚石表面碳原子与钛镀层之间的反应扩散模型.经表面金属化的金刚石烧结体的力学性能测试表明,金刚石与粉末合金界面上的结合得到增强
纳米TiO2薄膜的制备方法对NPC太阳电池性能的影响
文档格式:PDF 文档大小:808.3KB 文档页数:4
采用溶胶凝胶法、粉末涂敷法在导电玻璃上制得纳米TiO2薄膜.X射线衍射实验表明该薄膜主要是锐钛矿相结构,透射电子显微镜测得薄膜晶粒尺寸为30nm左右,扫描电镜观察了薄膜的表面形貌.分析了这两种方法制得的纳米TiO2薄膜所组成的染料敏化太阳电池的性能,提出了一种新的制作纳米TiO2薄膜的方法
超低碳深冲钢卷曲温度实验室研究
文档格式:PDF 文档大小:1.68MB 文档页数:6
利用Gleeble-1500试验机、X射线衍射仪、金相显微镜和透射电镜等手段,研究了卷曲温度对一种超低碳深冲钢显微组织、纳米级析出相和相应冷轧退火板织构的影响,并且获得了最佳的卷曲温度.热轧板中的析出相主要是硫化铜以及硫化铜和硫化锰复合析出物.低温卷曲时,析出相数量少、尺寸较大且分布稀疏.为获得较强的有利织构和良好的冲压性能,实验钢卷取温度应选定在600℃以下
共沉淀法合成铌镁酸铅——钛酸铅介电陶瓷粉末
文档格式:PDF 文档大小:355.67KB 文档页数:4
通过共沉淀法合成铌镁酸铅-钛酸铅介电陶瓷粉末,经800℃焙烧后,X射线衍射研究表明几乎为单一钙钛矿相;经1 000℃烧结的陶瓷片其密度达到理论值的96.77%,20℃介电常数可达20 940
真空液相重结晶法改善InSb薄膜的组织和性能
文档格式:PDF 文档大小:473.14KB 文档页数:4
利用真空下氩气保护液相重结晶的方法,对热蒸镀和磁控贱射制得的Insb薄膜进行热处理.X射线衍射和组织分析的结果表明:热处理前薄膜为Insb,In,Sb各相的混合物;重结晶后,基本为InSb单相,InSb晶粒呈规则状外形长大.热处理后室温下的电子迁移率大大提高,由原来的1.31×104 cm2/(V·s)提高到4.47×104 cm2/(V·s)(热蒸镀)和2.15×103 cm2/(V·s)提高到2.04×104 cm2/(V·s)(磁控溅射)
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