5.1 概述 5.2 EDTA及其配位特性 5.3 配位反应的副反应和条件稳定常数 5.4 配位滴定基本原理 5.5 金属指示剂 5.6 提高与配位滴定选择性的方法 5.7 EDTA标准溶液的配制和标定 5.8 配位滴定方式及应用

§8.1 表面吉布斯函数与表面张力 表面吉布斯函数σ 表面张力σ 影响表面张力的因素 巨大表面系统的表面吉布斯函数 §8.2 纯液体的表面现象 1. 弯曲液面的附加压力 2. 曲率对蒸气压的影响 3. 液体的润湿与铺展 4. 毛细管现象 §8.3 气体在固体表面上的吸附 1.气固吸附的一般常识 2.Langmuir单分子层吸附等温式 3.BET吸附等温式：多分子层气固吸附理论 4.其它吸附等温式 §8.4 溶液的表面吸附 1. 溶液表面的吸附现象 2. Gibbs吸附公式 3. 表面活性剂的吸附层结构 4. 表面膜 §8.5 表面活性剂及其作用 1.表面活性剂的分类 2.胶束和临界胶束浓度 3.表面活性剂的作用 §8.6 分散系统的分类 §8.7 溶胶的光学和力学性质 1.丁达尔（Tyndall）效应 2. 布朗（Brown）运动 3. 扩散 4. 沉降和沉降平衡 §8.8 溶胶的电性质 1.电动现象：电泳；电渗 2.溶胶粒子带电的原因 3.溶胶粒子的双电层 4.溶胶粒子的结构——胶团 §8.9 溶胶的聚沉和絮凝 1. 外加电解质对聚沉的影响 2. 溶胶的相互聚沉 3. 絮凝 §8.10 溶胶的制备和净化 §8.11 高分子溶液

胶体及其基本特性 溶胶的动力性质 溶胶的光学性质 溶胶的电学性质 溶胶的稳定性和聚沉作用 大分子概说 大分子的相对摩尔质量 Donnan平衡

一、概述 二、电毛细现象 三、双电层的微分电容 四、双电层的结构 五、零电荷电位 六、电极-溶液界面的吸附现象

5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.1.1 IGZO的结构与能带 5.1.2 a-IGZO中的电子态 5.1.3 CAAC-IGZO中的电子态 5.1.4 IGZO中的载流子传输机制 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.4.1 磁控溅射法 5.4.2 溶液法 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性

绪论 误差及分析数据处理 误差及其表示方法 误差的统计概念 分析数据的处理 自测题 分析质量控制和计量认证 分析质量控制 计量认证 自测题 重量分析法 概述 气化重量法 萃取重量法 沉淀重量法 自测题 滴定分析概论 自测题 酸碱滴定法 酸碱平衡及有关浓度计算 酸碱指示剂 酸碱滴定曲线和指示剂的选择 酸碱标准溶液的配制和标定 酸碱滴定法的应用 自测题 配位滴定法 概述 乙二胺四乙酸（EDTA）及其螯合物 配位滴定原理 金属离子指示剂 提高配位滴定选择性的方法 配位滴定的标准溶液和滴定方式 自测题 氧化还原滴定法 氧化还原反应的特点 氧化还原平衡 氧化还原滴定 高锰酸钾法 碘量法 重铬酸钾法 自测题 沉淀滴定法 概述 银量法 银量法标准溶液的配制和应用示例 自测题

重点、要点： 1、电位法常用指示电极和参比电极的结构、电极反应、 2、测定溶液pH的电极、测量方法和原理 4、电位滴定法的基本原理 4、永停滴定法的基本原理

第二节二元溶液的特性 在蒸气压缩式制冷使用的工质中,一般是单 物质,如R717、R22、R134a等。吸收式制冷的 世工质则不一样,是由两种沸点不同的物质组成的 二元混合物。在混合物中,低沸点的物质叫制冷 剂,高沸点的物质叫吸收剂,因此,称为制冷剂 一吸收剂工质对。例如最常用的工质对有 ①氨一水工质对

一、水的功能 1水在食品工艺学方面的功能 a从食品理化性质上讲,水在食品中起着溶解分散蛋白质、淀粉等说溶性成分的作用,使它们形成溶液或凝胶。 b从食品质地方面讲,水对食品的鲜度、硬度、流动性、呈味、耐贮性和加工适应性都具有重要的影响。 c从食品安全性讲,水是微生物繁殖的必需条件。 d从食品工艺的角度讲,水起着膨润、浸透、均匀化等功能

7.4蒸发设备 蒸发设备中包括蒸发器和辅助设备 7.4.1蒸发器 蒸发器主要由加热室和分离室组成。加热室有多种多样的形式,以适 应各种生产工艺的不同要求。按照溶液在加热室中的运动的情况,可将蒸 二次蒸 发器分为循环型和单程型(不循环)两类