习题一继电保护基本概念 习题二变换器 习题三阶段式电流保护 习题四方向保护 习题六距离保护一 习题七距离保护二 习题八高频保护 习题九差动保护 习题十一变压器保护 习题十二发电机保护 习题十三母线保护 习题十四微机保护

一、概述 二、电火花成形加工 1.电火花加工机床 常见的电火花成形加工机床由机床主体、脉冲电源、伺服系统、工作液循环系统等几个部分组成

1、钢尺量距的方法与计算 2、光电测距的原理与成果计算（难点） 3、直线定向概念及直线定向的方法（重点） 4、坐标方位角的推算（重点、难点）

一、德布罗意波 历史 德布罗意假设:不仅光具有波粒二象性,一切实物粒子如电 子、原子、分子都具有波粒二象性。 他提出:一个质量为m,速度为v的粒子具有波动性,只有 一个波长为λ,频率为v的波与之相对应,各量的关系为:

电枢反应的概念 电枢反应电枢磁通势的基波，在气隙中使气隙磁通的大小及位，置均发生变化,这种影响称为电枢反应

他励直流电动机的机械特性 一、机械特性的表达式 定义:在电动机的电枢电压、励磁电流、电枢回路电阻为恒值条件下,电机的转速与电磁转矩之间的关系:

在两种不同离子或离子相同而活度 不同的液/液界面上,由于离子扩散速 度的不同,能形成液接电位,它也可私 为扩散电位。扩散电位不仅存在于液 液界面,也存在于固体膜内,在离子选 择电极的膜中可产生扩散电位

1.1 量子概念的提出 1.1.1 光的波动性与黑体辐射 1.1.2 量子概念的提出 1.2 辐射的粒子性 1.2.1 光电效应 1.2.2 康普顿(Compton)效应 1.2.3 辐射的波粒二象性 1.3 关于原子结构的早期理论 1.3.1 电子的确定 1.3.2 汤姆森(Thomson)的原子模型 1.3.3 原子核的发现 1.3.4 卢瑟福(Rutherford)的原子模型 1.3.5 原子结构的玻尔(Bohr)理论 1.4 物质的波动性 1.4.1 德布洛意(de Broglie)假设 1.4.2 微观粒子的波动性 1.5 微观粒子状态的描述 l.5.1 微观粒子的状态 1.5.2 波函数的统计解释 1.5.3 波函数的标准化条件 1.5.4 态迭加原理 1.6 不确定（测不准）原理 1.6.1 平面波迭加成波包 1.6.2 坐标和动量的不确定关系 1.6.3 能量和时间的不确定关系 1.7 薛定谔（Schrödinger）方程 1.7.1 Schrödinger 方程的得来线索 1.7.2 定态 Schrödinger 方程 1.8 在势箱中运动的粒子 1.8.1 Schrödinger 方程的求解 1.8.2 解的讨论 1.9 算符和力学量 1.9.1 算符的一般概念 1.9.2 线性算符和厄密(Hermite)算符 1.9.3 本征值方程 1.9.4 算符和力学量的关系 1.9.5 Hermite 算符的两个性质 1.9.6 力学量的平均值 1.9.7 对易算符及其力学量 1.10 氢原子 Schrödinger 方程的解 1.10.1 原子的玻恩一奥本海默(Born-Oppenheimer)近似 1.10.2 分离变量 1.10.3 ߔ(߮)方程的解 1.10.4 ߆)θ)方程的解 1.10.5 R(r)方程的解 1.11 关于氢原子解的讨论 1.11.1 波函数߰௡௟௠是ܪ,෡ܯ෡ଶ和ܯ෡௭的共同本征函数 1.11.2 塞曼(Zeeman)效应 1.11.3 氢原子的维里（virial）定理 1.12 氢原子的电子分布图 1.12.1 径向分布图 1.12.2 角度分布图 1.12.3 空间分布图 1.13 电子自旋和角动量耦合 1.13.1 电子自旋 1.13.2 角动量耦合 习题

1.电声设备激光唱机、双卡录音机的结构、工作原理及质量鉴别。2.视频器具电视机、VCD影碟机的结构、工作原理及质量鉴别。3.电冰箱、空调机微波炉的基本结构，主要部分的工作原理，及其主要的质量指标和质量检验。4.微电脑、打印机、静电复印机、传真机、扫描仪的结构，基本工作原理，使用技巧、质量检验及维护保养。5.通讯产品如手机、电话机、掌上电脑的基本结构，基本工作原理、质量鉴别及维护保养。 第一节 视听设备 第二节 电冰箱、空调与微波炉 第三节 现代办公室自动化设备 第四节 通讯产品

利用盐湖氯化镁和硫酸制备七水硫酸镁,将七水硫酸镁脱水得到无水硫酸镁.采用天然气还原热解无水硫酸镁得到高纯氧化镁.通过单因素实验考察了还原热解温度、热解时间、硫酸镁的粒径和天然气气体流量对硫酸镁转化率的影响,通过正交试验优化了还原热解的条件.采用X射线衍射和扫描电镜对还原热解产物进行分析和表征.氧化镁的最佳制备条件:热解温度为1000℃,热解时间为30min,硫酸镁粒径为75μm,天然气气体流量为25mL·min-1.温度是影响硫酸镁转化率的主要因素.在最佳制备条件下,硫酸镁的转化率达到99.27%,氧化镁的纯度达到99.5%,制取的氧化镁单分子均匀,表面为多孔蓬松,具有高比表面积