一、单极型MOS(Metal Oxide Semiconductor)集成电路分PMOS、NMOS和CMOS三种。 二、NMOS电气性能较好，工艺较简单，适合制作高性能的存储器、微处理器等大规模集成电路。 三、而由NMOS和PMOS构成的互补型CMOS电路以其性能好、功耗低等显著特点，得到愈来愈广泛的应用。 四、主要介绍NMOS和CMOS门电路

一、单极型MOS(Metal Oxide Semiconductor)集成电路分PMOS、NMOS和CMOS三种。 二、NMOS电气性能较好，工艺较简单，适合制作高性能的存储器、微处理器等大规模集成电路。 三、而由NMOS和PMOS构成的互补型CMOS电路以其性能好、功耗低等显著特点，得到愈来愈广泛的应用。 四、主要介绍NMOS和CMOS门电路

有限元法作为一个有效的数值分析工具,在许多科学领域当中有成功的应用。本课程为机械类专业的高年级本科生开设，课程目标如下：1)了解什么是有限元法、有限元方法的基本思想。2)了解有限元软件的发展水平，学会用有限元软件分析工程问题的方法。3)学习有限元法的原理，主要结合弹性力学问题来介绍有限元法的基本方法，包括单元分析、整体分析、载荷与约束处理、等参单元的概念等

对话框和控件之间是一对密不可分的卵生姐妹。通常来 讲，对话框中有一些控件元素，控件通常也建在对话框中。 对话框是一个弹出式的标准窗口。当我们在一个应用程序中 需要用户进行数据的输入，或需要与用户进行对话，对话框 弹出来让用户从一系列输入操作中进行选择，而每一种操作 都对应着一个控件的实现，这些控件由诸如单选按钮、复选 按钮、编辑框和列表框等对象组成

4.1坐标变换 4.2二维图形裁剪 4.2.1线段的矢量裁剪法 4.2.2线段的编码裁剪法 4.2.3多边形的裁剪 4.3地图符号的自动绘制 4.3.1线型 4.3.2线状符号 4.3.3多边形轮廓线内绘制晕线 4.4曲线的绘制 4.4.1正轴抛物线加权平均法 4.4.2近似斜轴抛物线加权平均法 4.4.3张力样条函数插值法 4.5等高线的绘制

折射率是透明材料的一个重要光学常数。测定透明材料折射率的方法很多，全反射法是其 中之一。全反射法具有测量方便快捷，对环境要求不高，不需要单色光源等特点。然而，因全 反射法属于比较测量，故其测量准确度不高（大约Δn=3×104），被测材料的折射率的大小受到 限制（约为 1.3～1.7），且对固体材料还需制成试件。尽管如此，在一些精度要求不高的测量中， 全反射法仍被广泛使用

▪ 3种操作数（立即数、寄存器和内存操作数）的形式。 ▪ 常用指令的格式、功能以及对CF、OF、SF、ZF的影响。 ▪ 使用指令时容易犯的错误

一、3种操作数（立即数、寄存器和内存操作数）的形式。 二、常用指令的格式、功能以及对CF、OF、SF、ZF的影响。 三、使用指令时容易犯的错误

1、 柔性强 2、 可靠性高 3、 易于实现多功能复杂程序控制 4、 具有较强的网络通讯功能：DNC、FMS、 CIMS 等 5、 具有自诊断功能

针对航空用钛合金开发了一种不采用氢氟酸、甲醇、铬酐类等有毒物质的低毒、无刺激、环保型电化学抛光工艺,并采用光学显微镜、原子力显微镜等方法对电化学抛光后的钛合金表面形貌进行研究.该工艺所用溶液由无水乙醇、乳酸、高氯酸和高氯酸钠组成,将Ti-10V-2Fe-3Al钛合金在直流电源恒电流模式下电化学抛光,可以通过改变抛光时间、电流密度和高氯酸浓度等参数控制腐蚀深度.分别在体积分数为5%,10%和15%的三种高氯酸溶液中和在20,25和30 A·dm-2三个电流密度下进行电化学抛光.抛光后的钛合金表面形貌观察结果表明:在高氯酸含量较低(5%)的溶液中以20 A·dm-2电流密度抛光可以取得较理想的效果