§ 5.1 酸碱质子理论概述 § 5.2 水的解离平衡和溶液的pH § 5.3 弱酸、弱碱的解离平衡 5.3.1 一元弱酸、弱碱的解离平衡 5.3.2 多元弱酸的解离平衡 5.3.3 盐溶液的酸碱平衡 § 5.4 缓冲溶液 5.4.1 同离子效应 5.4.2 缓冲溶液 5.4.3 缓冲溶液pH的计算 * 5.4.4 缓冲范围和缓冲能力 § 5.5 酸碱指示剂 § 5.6 酸碱电子理论 § 5.7 配位化合物 § 5.8 配位反应与配位平衡 5.8.1 配合物的解离常数和稳定常数 *5.8.2 配体取代反应和电子转移反应 *5.8.3 配合物稳定性

§3.1 水平角和竖直角测量原理 §3.2 光学经纬仪的基本结构 §3.3 光学经纬仪的读数设备及读数方法 §3.4 水平角测量 §3.5 竖直角测量 §3.6 经纬仪的检验与校正 §3.7 角度测量误差与注意事项 §3.8 其他经纬仪简介

• §9-1 装配图的作用与内容 • §9-2 装配图的表达方法 • §9-3 装配图的视图选择 • §9-4 装配图的尺寸标注、零件编号和明细栏 • §9-5 装配结构的合理性 • §9-6 部件测绘和装配图的画法 • §9-7 装配图的读图方法和拆画零件图 • §9-8 计算机绘制装配图

§15-1 摩擦状态 §15-2 滑动轴承的结构型式 §15-3 轴瓦及轴承衬材料 §15-5 非液体摩擦滑动轴承的计算 §15-4 润滑剂和润滑装置 §15-6 动压润滑的基本原理 §15-8 静压轴承与空气轴承简介 §15-7 液体动压多油楔轴承简介

§2.1 中频电源设备 §2.3 雷达发射机 §2.4 微波传输及雷达天线系统 §2.5 雷达接收机 §2.6 收发开关 §2.7 显示器 §2.8 雷达显示方式 §2.9 双雷达系统及性能监视器

第一节 半导体器件 § 2.1.1 半导体的基本知识 § 2.1.2 PN 结及半导体二极管 § 2.1.3 半导体三极管 第二节 基本放大电路 §2.2.1 放大电路的组成 §2.2.2 放大电路的分析方法 §2.2.3 静态工作点的稳定 §2.2.4 放大器的主要性能指标 §2.2.5 多级阻容耦合放大电路

§4.7 克劳修斯熵公式 §4.8 熵增加原理再举例 §4 .9 温熵图(T-S diagram） §4．10 熵和与能量退化 耗散结构 简介

§14.1 胶体和胶体的基本特性 §14.2 溶胶的制备及提纯 §14.3 溶胶的动力性质 §14.4 溶胶的光学性质 §14.5 溶胶的电学性质 §14.6 双电层理论和ζ电势 §14.7 溶胶的稳定性和聚沉作用 §14.11 唐南平衡

§13.1 表面张力和表面吉布斯自由能 一、基本概念 二、界面存在的热力学条件 三、表面张力及表面吉布斯自由能 四、表面热力学基本公式 §13.2 弯曲表面的附加压力和蒸气压 §13.3 溶液的表面吸附 §13.4 液-液界面的性质 §13.6 液-固界面 -润湿 作用 §13.7 表面活性剂及作用 §13.8 固体表面的吸附 §13.9 气-固体表面催化反应

§8－1 零输入响应 §8－2 零状态响应 §8－3 完全响应 §8－4 三要素法 §8－5 阶跃函数和阶跃响应 * §8－6 冲激函数和冲激响应 §8－7 计算机辅助电路分析举例 §8－8 正弦信号激励的一阶电路