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冷连轧动态规格变换设定模型的探讨
文档格式:PDF 文档大小:1.03MB 文档页数:16
本文从为满足合理的轧制工艺制度出发,即在动态规格变换中两规程机架间总张力不等,采用轧制理论公式线性化的方法,考虑到机架间张力传递的影响,建立随变规格点到达各机架逆轧制线方向(逆流)改变各机架轧辊转速和辊缝的设定模型,导出其递推计算公式。其设定值进行计算机模拟动态规格变换结果表明,该设定模型是正确的,可做为变张力条件下动态规格变换计算机在线设定、控制模型的基础
铈对高锰钢奥氏体胞晶稳定性及锰的枝晶偏析的影响
文档格式:PDF 文档大小:3.19MB 文档页数:21
作者对铸造用高锰钢采用定向凝固并严格控制工艺参数获得了稳定的奥氏体胞晶组织,发现随着铈量增加,胞晶前沿转向枝晶发展,并有游离晶出现。与此同时,用电子探针微区分析考察了铈对高锰钢中锰在定向凝固条件下获得的胞晶、柱状晶及等轴晶内偏析的定量影响,在前人研究成果的基础上,考虑到固相反扩散这一因素,导出了高锰钢中锰元素的溶质分布表达式,通过对实验数据进行理论分析,发现溶质平衡分配系数K。值是影响枝晶偏析的决定性因素
长江大学:《大学物理》课程教学资源(物理实验报告)霍尔元件测磁场
文档格式:DOC 文档大小:5.5MB 文档页数:9
霍耳效应是德国物理学家霍耳(A.H.Hall 1855—1938)于 1879 年在他的导师罗兰 指导下发现的。由于这种效应对一般的材料来讲很不明显,因而长期未得到实际应用。 六十年代以来,随着半导体工艺和材料的发展,这一效应才在科学实验和工程技术中 得到了广泛应用
《工程科学学报》:铝电解槽废阴极炭块电-热耦合处理过程数值模拟(北京科技大学)
文档格式:PDF 文档大小:1.56MB 文档页数:9
废阴极炭块是铝电解槽大修时产生的一种危险固体废弃物,对其进行安全处置和资源化利用的关键是深度分离其中的有价组分炭和氟化盐.采用火法工艺对废阴极炭块进行处理,明确了氟化盐的挥发温度.基于氟化盐的挥发析出性质,设计了高温热处理电阻炉,并对其传热特性、控温规律以及氟化盐有效挥发区域进行了三维数值解析
长江大学:《大学物理》课程教学资源(物理实验报告)霍尔元件测磁场实验报告
文档格式:DOC 文档大小:5.5MB 文档页数:9
霍耳效应是德国物理学家霍耳(A.H.Hall 1855—1938)于 1879 年在他的导师罗兰 指导下发现的。由于这种效应对一般的材料来讲很不明显,因而长期未得到实际应用。 六十年代以来,随着半导体工艺和材料的发展,这一效应才在科学实验和工程技术中 得到了广泛应用
轧制过程数学模型(讲义)
文档格式:PDF 文档大小:413.13KB 文档页数:20
1.1 轧制工艺参数模型 随着科学技术的发展,计算机已广泛应用于轧钢生产过程的控制,促使轧钢 生产向自动化、高速和优质方向发展。电子计算机在线控制生产过程,不仅仅只 是电子计算机本身的硬件和软件的作用,更重要的是控制系统和各种各样的数学 模型,正因为有适合轧钢生产的各种数学模型,才有可能实现电子计算机对整个 轧钢生产各个环节的控制,获得高精度的产品
《化工环保》:污泥减量化技术研究进展(鲁智礼、庞朝辉、王海燕、周岳溪、柳栋升、张娜)
文档格式:PDF 文档大小:219.69KB 文档页数:5
针对当前日益突出的污泥处理处置难等问题,分别从物理法、化学法和生物法等方面阐述了当前污泥减量化技术的研究发展现状,介绍了各种工艺的基本原理、点和存在的问题。结合国内外污泥减量化技术的研究进展,提出了未来污泥减量化技术的发展方向
动物科学专业:《配合饲料加工工艺原理与技术》课程教学大纲
文档格式:DOC 文档大小:42.5KB 文档页数:6
绪论 (一)教学目的 通过教学,使学生了解配合饲料工业发展的总体概况,中国饲料发展概况,以及本课程 学习的主要内容。 (二)教学内容 配合饲料工业发展总体概况,中国饲料发展概况,本课程学习内容。 (三)教学要求 1.了解饲料工业发展总体概况。 2.了解中国饲料发展概况。 四)重点、难点及教学建议 重点:无
《机械工程材料》课程教学资源(PPT课件)第5章 金属材料的改性处理
文档格式:PPT 文档大小:1.91MB 文档页数:113
改善金属材料的性能,主要可以通过如下几种途径:合金化即加入合金元素,调整材料的化学成分。可显著媞高钢的强度、硬度和韧性,并使其具有耐蚀、耐热等特殊性热处理即金属材料通过不同的加热、保温和冷却的方式。使基内部的組结构发生变化,以达到改善加工工艺性前和强化力学性能的目的。 5.1 金属材料的改性处理理论基础 5.2 钢的热处理 5.3 钢的表面强化处理
电子科技大学成都学院微电子技术系:《集成电路原理》讲义
文档格式:PPT 文档大小:2.5MB 文档页数:117
绪论 0.前言 1.IC的分类 2.描述IC工艺技术水平的五个技术指标 3.微电子科学技术的发展历史 4.微电子发展的规律 5.半导体IC技术发展趋势 6.我国微电子发展概况
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