■卤代烷的消除反应 消除反应的E2机理和E1机理,影响消除反应机理的因素, ■消除的 ZaitsevHofmann取向和取向烯烃的类型及相对稳 定性。 E2机理的立体化学 反合成分析, Williamson醚合成法

用二次压缩方法测定了含硼面心Fe-30%Ni合金1000℃热变形10%和40%后保温时的软化率曲线,并由此估计了再结晶过程.用径迹照相方法(PTA)研究了再结晶过程中运动晶界反常偏聚规律以及形变量对反常硼偏聚的影响.用定量统计方法测量了不同形变量下,运动晶界的硼偏聚量.结果表明,新晶粒长大过程中,晶界反常偏聚量与形变量、晶界运动速度等因素有关.并用半定量的方法估算了不同形变量下,再结晶新晶粒长大过程中新晶粒边界向变形晶粒推进时的平均速度.用晶界展宽机制对此现象进行了讨论

基于采用较高液固比(20:1)的实验条件,避免了因硅酸钠与铝酸钠反应形成水合铝硅酸钠(钠硅渣),可将氧化铝熟料溶出二次反应动力学过程分为SiO2进入铝酸钠溶液和Al2O3损失两个动力学过程,详细研究了SiO2进入铝酸钠溶液过程的动力学行为.通过选择合适的动力学模型对实验数据进行处理,获得了该过程的动力学方程.方程表明,该过程的表观活化能较小,仅为24.86kJ·mol-1,说明其过程发生需要突破的活化能能垒较小,相应反应较易发生,其动力学机理与表面化学反应有关,也与扩散有关.铝酸钠溶液中Al2O3质量浓度对过程的影响远远大于铝酸钠溶液中Na2CO3质量浓度和NaOH质量浓度的影响,因此认为熟料溶出过程中,导致SiO2进入铝酸钠溶液的原因主要是熟料中的硅酸钙与NaAl(OH)4相互作用

7.1反馈的基本概念与分类 7.1.1反馈的基本概念 7.2负反馈放大电路的方框图及增益的一般表达式 7.1.2四种类型的反馈组态 7.3负反馈对放大电路性能的改善 7.4负反馈放大电路的分析方法 7.5负反馈放大电路的稳定问题

将模糊遗传算法与混沌的延迟反馈控制方法相结合,提出了基于模糊遗传算法的延迟反馈控制方法.它利用模糊遗传算法强大的寻优能力来整定延迟反馈控制中的控制刚度矩阵参数,从而克服了延迟反馈控制中控制刚度难于确定的问题.对混沌Lorenz系统的仿真控制说明该算法具有快速性好和抗干扰能力强等优点

一、电枢反应的概念 电枢反应电枢磁通势的基波 在气隙中使气隙磁通的大小及位置均发生变化,这种影响称为电枢反应

电枢反应的概念 电枢反应电枢磁通势的基波，在气隙中使气隙磁通的大小及位，置均发生变化,这种影响称为电枢反应

一、条件电位 氧化剂和还原剂的强弱，可以用有关电对的标 准电极电位（简称标准电位）来衡量。电对的标准电 位越高，其氧化型的氧化能力就越强；反之电对的标 准电位越低，则其还原型的还原能力就越强。因此， 作为一种还原剂，它可以还原电位比它高的氧化剂。 根据电对的标准电位，可以判断氧化还原反应进行的 方向、次序和反应进行的程度

络合滴定法是以络合反应为基础的一种滴定分析 方法。如用AgNO3溶液来滴定CN,其反应如下 Ag*+2CN= [Ag(CN) 滴定达到化学计量点时,多加一滴AgNO3溶液 Ag就与[Ag(CN)2反应生成白色的Ag[Ag(CN)2 沉淀,以指示滴定终点的到达。终点反应为 [Ag(CN)]+Ag*=Ag[Ag(CN)2]

§2.1 基本概念与术语 §2.2 单一反应速率式的解析 §2.3 复合反应