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• 第一章：Linux操作系统简介 • 第二章：Linux操作系统安装和基本配置 • 第三章：Linux操作系统的文件系统结构 • 第四章：Linux操作系统的用户管理 • 第五章：Linux操作系统常用命令详解 • 第六章：Linux操作系统的进程管理 • 第七章：Linux操作系统的NFS服务配置 • 第八章：Linux操作系统的磁盘限额服务配置 • 第九章：Linux操作系统的NIS服务配置 • 第十章：Linux操作系统的ssh服务配置 • 第十一章：Linux操作系统的rsh 服务配置 • 第十二章：Linux操作系统的常用编译工具 • 第十三章：基于高性能计算的Linux操作系统并行环境配置

1、生产过程与工艺过程 2、工艺过程的组成 3、生产类型 4、工艺规程的作用与形式 5、工艺规程的制订 第一节 基本概念 第二节 零件的结构 工艺性分析 第三节 机床夹具与 工件定位 1、工件的装夹 2、机床夹具的组成与分类 3、工件的定位 1、加工余量的确定 2、工序尺寸与公差的确定 1、尺寸链的定义及特点 2、尺寸链的组成 3、尺寸链的计算 4、尺寸链的应用 第四节 定位基准的选择 1、基准的概念及分类 第五节 工艺路线的制订 2、定位基准的选择 第六节 加工余量与工序 尺寸的确定 第七节 工艺尺寸链 第八节 典型零件加工 工艺过程 轴/套筒/箱体类零件的加工过程

第一节 晶体二极管 一、半导体的导电特性 三、晶体二极管及其特性 二、PN结及其单向导电性 四、特殊二极管 第二节 晶体三极管 一、晶体三极管的结构 二、晶体三极管的放大作用 三、晶体三极管的特性曲线 四、晶体三极管的主要参数 第三节 基本放大电路 一、放大电路的基本概念 二、基本放大电路及其工作状态分析 三、放大电路性能指标的计算 四、静态工作点稳定电路 第四节 射极输出器 一、射极输出器的工作状态 二、射极输出器的应用 第五节 场效应管及其放大电路 一、绝缘栅型场效应管 二、绝缘栅场效应管的主要参数 三、场效应管基本放大电路

8.1 系统并行扩展结构 8.2 地址空间分配和外部地址锁存器 8.2.1 存储器地址空间分配 8.2.2 外部地址锁存器 8.3 静态数据存储器RAM的并行扩展 8.3.1 常用的静态RAM（SRAM）芯片 8.3.2 外扩数据存储器的读写操作时序 8.3.3 AT89S52单片机与RAM的接口设计与软件编程 8.4 片内Flash存储器的编程 8.4.1 使用通用编程器的程序写入 8.4.2 使用下载线的ISP编程 8.5 E2PROM的并行扩展 8.5.1 并行E2PROM芯片简介 8.5.2 E2PROM的工作方式 8.5.3 AT89S52单片机扩展E2PROM AT2864的设计

3.1 氢分子离子 3.1.1 分子轨道表示为原子轨道的线性组合 3.1.2 Hଶ ା的线性变分处理 3.1.3 积分 α，β 和 S 的计算 3.1.4 Hଶ ା的共价键 3.2 分子轨道理论 3.2.1 Born-Oppenheimer 近似和非相对论近似 3.2.2 单电子近似（轨道近似） 3.2.3 LCAO 近似 3.2.4 电子的填充规则 3.3 形成共价键的条件 3.3.1 能量相近原则 3.3.2 最大重迭原则 3.3.3 对称性匹配原则 3.4 同核双原子分子 3.4.1 双原子分子的分子轨道的类型和符号 3.4.2 从 H 到 F 的原子轨道能量和基电子组态 3.4.3 第一周期的同核双原子分子和离子. 3.4.4 第二周期的同核双原子分子 3.5 异核双原子分子 3.5.1 异核分子轨道的形成和键矩 3.5.2 异核双原子分子的成键情况举例 3.6 双原子分子的光谱项 3.6.1 双原子分子的分子轨道分类 3.6.2 双原子分子的光谱项 3.6.3 常见电子组态的光谱项 3.6.4 分子状态的对称性 3.6.5 双原子分子的光谱项举例 3.7 价键理论及其对 H2 分子的处理 3.7.1 海特勒-伦敦(Heitler-London)对 H2 的处理 3.7.2 价键理论的要点

学类核心课 化学实验室安全技术 化学类专业导论（研讨课） 无机化学(1) (2) 有机化学(1) (2) 分析化学(1) 分析化学(2) 物理化学(1) (2) 基础化学操作实验 基础无机化学实验 基础有机化学实验(1) (2) 基础分析化学实验(1) (2) 基础物理化学实验(1) 基础物理化学实验(2) 专业核心课 结构化学 材料物理化学 高分子化学与涂料 电化学动力学 金属腐蚀及防护理论 应用化学专业实验 化学工程基础 化学工程基础实验 专业选修课 电化学测量 应用化学前沿 现代表面工程与技术 化学电源 防锈与缓蚀剂技术 材料研究方法 应用化学专业英语 计算机在化工中的应用 环境科学与工程导论 集中实践环节 化工基础课程设计 毕业实习 认识实习 毕业设计（论文）151

§2.1 自发过程的共同特征 §2.2 热力学第二定律的经典表述 §2.3 卡诺循环和卡诺定理 §2.4 熵的概念 1.可逆过程的热温商及熵的引出 2.不可逆过程的热温商 3.热力学第二定律的数学表达式——Clausius不等式 §2.5 熵变的计算及其应用 1.定温过程的熵变 2.定压或定容变温过程的熵变 3.相变化的熵变 §2.6 熵的物理意义及规定熵的计算 1.宏观状态和微观状态 2.熵是系统混乱度的度量 3.热力学第三定律及规定熵的计算 §2.7 Helmholtz函数和Gibbs函数 §2.8 热力学函数的一些重要关系式 1. 热力学函数之间的关系 2. 热力学基本公式 3. Maxwell关系式 §2.9 △G的计算 1. 简单状态变化的定温过程的△G 2. 物质发生相变过程的△G 3. 化学反应的△G 4. △G随温度T的变化——吉布斯－亥姆霍兹公式 §2.10 非平衡态热力学简介 1. 熵产生和熵流 2. 熵产生公式 3. 最小熵产生原理和耗散结构

SQL特点 9.1.1数据库语言SQL 9.1.2SQL特点 2 SQL数据定义 9.2.1 SQL模式的创建和撤销 9.2.2 SQL的基本数据类型 9.2.3基本的表的创建和撤销 9.2.4索引的创建和撤销 3 SQL数据查询 9.3.1 SELECT基本句型 9.3.2 SELECT语句的使用技术 9.3.3 SELECT语句完整的结构 9.3.4 数据查询的改进写法 9.3.5 嵌套查询的改进写法 9.3.6 基本表的连接操作 9.4.1数据插入 9.4.2 数据删除 9.4.3 数据修改 4 SQL数据更新 4 计算机基础教研室 6 嵌入式SQL 5 视图的定义及操作 9.5.1 视图的创建和撤销 9.5.2 对视图的操作 9.6.1 嵌入式SQL的实现方式 9.6.2 嵌入式SQL的使用规定 9.6.3 SQL的集合处理方式的主语言 单记录处理方式之间的协调 9.6.4嵌入式SQL的使用技术

7.1 单片机控制发光二极管的显示 7.1.1 单片机与发光二极管的连接 7.1.2 单片机I/O端口控制发光二极管的编程 7.2 开关状态检测 7.3 单片机控制LED数码管的显示 7.3.1 LED数码管显示原理 7.3.2 LED数码管的显示方式 7.3.3 LED数码管静态显示设计 7.3.4 LED数码管动态显示设计 7.4 单片机控制LED点阵显示器显示 7.4.1 LED点阵显示器结构与显示原理 7.4.2 控制16×16 LED点阵显示屏的设计 7.5 单片机控制LCD 1602液晶显示器的显示 7.5.1 LCD 1602液晶显示模块简介 7.5.2 单片机控制字符型LCD 1602的显示案例 7.6 键盘接口设计 7.6.1 键盘接口设计应解决的问题 7.6.2 独立式键盘的设计 7.6.3 矩阵式键盘的设计 7.6.4 单片机与专用键盘/显示器芯片HD7279的接口设计 7.7 AT89S52单片机与微型打印机TPµP-40A/16A的接口 7.7.1 TPµP-40A/16A微型打印机简介 7.7.2 AT89S52单片机与TPµP-40A/16A的接口设计 7.8 单片机与BCD码拨盘的接口设计