微型计算机的基本组成有三部分,即中央处理器 CPU(通常包括运算器和控制器)+存储器+输入/输出(I/O) 接口。若将组成计算机的基本部件集成在一块芯片上,则 俗称为单片微机。 80C51内部结构如图2-1所示,主要包括中央处理 器CPU(算术逻辑部件ALU、控制器等)、只读存储器 ROM、随机存取存储器RAM、定时器/计数器、并行IO 口P0~P3、串行口、中断系统以及定时控制逻辑电路等

什么是选举 所谓选举,其实质就是在评选人对候选人先后(优劣 次序排队的基础上,根据某一事先规定的选举规则决定出候 选人的一个先后次序,即得出选举结果。现用={,2,…,n表 示评选人集合,用有限集A=wxy表示候选人集合,用 >=,y)表示评选人认 为x优于y,用(x>y)表示选举结果为x优于y并用p表示评选 人的排序,p表示选举结果

定义6.1一个概率分布族是由{1}的一个无穷 子集,称为指标集,和每个指标i∈1对应一个 概率分布p,(x)dp(x)≥0p,(x)=1构成,其中 x∈D Di为{0,1}的一个有穷子集

1．初步了解原子核外电子运动的近代概念、原子能级、波粒二象性、原子轨道和电子云概念。2．了解四个量子数对核外电子运动状态的描述，掌握四个量子数的物理意义、取值范围。3．熟悉s、p、d原子轨道的形状和方向。4．理解原子结构近似能级图，掌握原子核外电子排布的一般规则和s、p、d、f区元素的原子结构特点。5．会从原子的电子层结构了解元素性质，熟悉原子半径、电离能、电子亲和能和电负性的周期性变化。 1.1 亚原子粒子Subatomic particles 1.2 波粒二象性— 赖以建立现代模型的量子力学概念 Wave-particle duality — a fundamental concept of quantum mechanics 1.3 氢原子结构的量子力学模型— 波尔模型 The quantum mechanical model of the structure of hydrogen atom —Bohr’s model 1.4 原子结构的波动力学模型 The wave mechanical model of the atomic structure 1.5 多电子原子轨道的能级 Energy level in polyelectronic atoms 1.6 基态原子的核外电子排布 Ground-state electron configuration 1.7 元素周期表 The periodic table of elements 1.8 原子参数 Atomic parameters

11.1杂凑函数的定义 定义11.1一个函数族:01→{1n>m}称为强无 碰撞压缩函数族,若下面两个条件成立。 (1)计算hn(x)是容易的,即存在一个多项式时间 算法F,若F的输入为10和x∈{0,1,则其输出为 hn(x). (2)给定算法F要找两个不同的消息x1≠x2(x=2D, 使得(x)=hx(x)是困难的,即对每一个多项式时 间概率算法M',每一正多项式p(n)和一切充分大 的n有Prhn))∈Cn(Un)}<1/p(n)(11.1) 其中Un表示{0,1}上的均匀分布随机变量

1.椭圆曲线 定义9.5.1:设p是一个大于3的素数,在 Zp上的椭圆曲线y2=x3+ax+b由一个基 于同余式y2=x3+ax+ modp的解集(x, y)∈p*zp和一个称为无穷远点的特定 点O组成,这里的a,b∈Zp是二个满足 4a+27b=0modp的常数

粘性流体运动的基本方程组 研究粘性流体运动问题时,我们关心的 物理量一般为: 流体的速度V, (对于空间流动,有u,V,w三速度分量) 以及三个热力学状态参数: 压强P,密度p和温度T

通过电化学阻抗方法测量316L不锈钢在25~85℃的醋酸溶液中的EIS曲线和Mott-Schottky曲线,并测量各温度点下的循环伏安曲线,研究了钝化膜的电化学性质.研究结果表明:在醋酸溶液中的阻抗谱表明316L不锈钢在25~85℃温度范围内均能形成稳定的钝化膜,随温度升高极化阻力下降而界面电容增大.温度对于316L不锈钢钝化膜的半导体本征性质没有根本的影响:在-0.5~0.1V电位区间内钝化膜呈p型半导体特征;在0.1~0.9V电位区间内钝化膜呈n型半导体特征;在0.9~1.1V电位区间内钝化膜呈p型半导体特征.钝化膜的循环伏安曲线显示当温度低于55℃时,钝化膜结构比较稳定;当温度为55℃时,钝化膜稳定性趋向恶化;当温度超过55℃时,钝化膜稳定性下降

3.设p>0,b>0,p,q均为正整数且q≥2.给定方程组 dt=1-kr-ry, dt=b(r'y'-y) 作变量变换,使其定常解(x(,y(4)=(,0)对应于新方程组的零解并讨论其稳定性

在真空密封造型工艺(V法)的基础上,提出压力下真空密封造型铸造工艺(P-V法),并对P-V法中铸型抗压强度、抗剪强度、抗拉强度、硬度、薄膜烧失、浇注时型腔压力、金属液充型流动等工艺参数进行系统的基础研究