光刻的目的和意义第四章已做过简单的描 述,这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准 备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性

对光合细菌的生长条件进行了较系统的研究与观察,发现温度、照度和pH值影响光合细菌的生长,并且三者之间又相互制约.实验结果表明,温度为30℃,照度为2 250 lx,pH值为7~8时光合细菌的光密度最大,生长态势最好

光化学反应 光化学反应(Photochemical Reaction):吸收光能而进行的化学反应 例如:植物的光合作用;照相底片的感光反应;

采用X射线衍射仪、投射电镜仪和扫描电镜仪等测试手段,系统地研究了不同聚乙烯亚胺(PEI)浓度对ZnO纳米线阵列膜的形貌、线密度和尺寸的影响及ZnO纳米线阵列膜的光电性能.研究结果表明,在PEI浓度从3.2 mmol·L-1变化到9.3 mmol·L-1所制备的所有ZnO纳米线阵列膜中,使用7.3 mmol·L-1PEI浓度合成的ZnO纳米线阵列膜,制成染料敏化太阳能电池后获得0.66%的最高的光电转换效率

第一节 光学分析概论 一、电磁辐射和电磁波谱 二、光学分析法及其分类 三、光谱法仪器——分光光度计 第二节 紫外-可见吸收光谱 一、紫外-可见吸收光谱的产生 二、紫外-可见吸收光谱的电子跃迁类型 三、相关的基本概念 四、吸收带类型和影响因素

一、衍射现象 波遇到障碍物时,绕过障碍 物进入几何阴影区。 光偏离直线传播路径进入几 何阴影区,并形成光强非均 匀稳定分布(见下页图)

从理论上对共焦球面法布里-珀罗干涉仪的自由光谱范围、透射谱线半宽度、精细度、光谱分辨率等光学参数进行了分析,并根据激光超声检测的特点和要求,设计制作了一台实验室用的共焦球面法布里-珀罗干涉仪.利用单片机对该干涉仪的腔长和工作点进行控制,成功实现了激光超声的非接触测量

建立了大型光亮退火马弗炉加热段温度场的三维仿真模型.该模型考虑了马弗炉实际结构、带钢退火速度和升温曲线特点,采用等效热流密度表征马弗管内保护气体和带钢的换热;选择组分传输燃烧模型、离散坐标辐射模型和标准k-ε双方程湍流模型描述马弗炉内燃烧、换热和气体流动;应用SIMPLE计算方法进行求解.典型规格304不锈钢带光亮退火过程实测特征点温度值和模拟结果基本吻合.分析得到了马弗炉内温度场、流场和速度场分布规律.结果表明:马弗管温度比较均匀,喷嘴正对区域温度偏高;燃气气流沿马弗管壁螺旋流动实现均匀加热.喷吹量较小时,喷吹量(入口速度)越大,马弗炉内温度越高;喷吹量继续增大,马弗炉内温度反而开始降低

光栅有两种形式,一是透射光栅,即在一条透明玻璃片上刻 有一系列等间隔密集线纹:二是反射光栅,即在长条形金属镜面 上制成全反射或漫反射间隔相等的密集线纹。光栅输出信号有: 两个相位信号输出,用于辨向;一个零标志信号,用于机床回参 考点的控制

13-1基本光度单位及应用 13-2人眼的视觉特性 13-3材料的光学性质