一、薄膜图形化的光刻技术 二、光刻使用的等离子体刻蚀技术 三、 等离子体刻蚀机制 四、未来的纳米光刻技术

一、薄膜图形化的光刻技术 二、光刻使用的等离子体刻蚀技术 三、等离子体刻蚀机制 四、未来的纳米光刻技术

一、了解热辐射的两条实验定律:斯特藩玻耳兹曼定律和维恩位移定律,以及经典物理理论在说明热辐射的能量按频率分布曲线时所遇到的困难.理解普朗克量子假设. 二、了解经典物理理论在说明光电效应的实验规律时所遇到的困难.理解爱因斯坦光子假设,掌握爱因斯坦方程. 三、理解康普顿效应的实验规律,以及爱因斯坦的光子理论对这个效应的解释.理解光的波粒二象性

第九章 载流子的散射 第十章 半导休中的热现象 第十一章 复杂能带中的输运现象 第十二章 强电场下的热电子 第十三章 光的吸收和反射 第十四 章磁光现象、量子磁揄运、磁共振 第十五章 半导体中的发光现象 第十六章 非晶态半导体

愿意、光电效应实验的规律 (1)实验装置 光照射至金属表面,电子从金 属表面逸出,称其为光电子 (2)实验规律 截止频率(红限) 0 仅当>V才发生光电效应, 截止频率与材料有关与光强无关

1.1 光栅的形成 电视机荧光屏上所呈现的光称为光栅，它是由电子扫描运动而形成的

一、 光的实质 1、光是一种电磁波 2、红外线，波长为340μm～780nm。 3、可见光，波长为780nm～380nm。 4、紫外线，波长为380nm～10nm

一、黑体辐射的实验定律 二、Plank的分立谐振子假设 三、Einstein的光量子模型

17.13双折射偏振棱镜 一、双折射的寻常光和非寻常光 折射定律

一、分波前的干涉装置 二、分振幅的干涉装置 三、光波场的空间相干性 四、光波场的时间相干性