11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

11.1 配位滴定法概述 11.2 影响金属EDTA配合物稳定性的因素 11.3 配位滴定的基本原理(单一金属离子的滴定) 11.4 金属离子指示剂 11.5 提高配位滴定选择性的方法 11.6 配位滴定的方式和应用

一、EDTA(性质、与金属离子配位特点) 二、影响EDTA配合物稳定性的因素 三、配位滴定曲线 四、金属指示剂 五、提高配位滴定选择性的方法 六、配位滴定法的应用

教学指导 概述 乙二胺四乙酸的性质及其配合物 配位解离平衡及影响因素 配位滴定法原理 金属指示剂 提高配位滴定选择性的方法 配位滴定的应用

前面介绍了梁的挠曲线及其挠度、转角 的求解,用挠曲线确定梁的位移是很方便的 ,但这种方法并不适于求结构的位移(如图5 -10)。 下面来讨论静定结构在荷载作用下任一 点的位移计算

6-1 概述 6-2 配位平衡 6-3 副反应系数和条件形成常数 6-4 配位滴定法基本原理 6-5 金属离子指示剂 6-6 提高配位滴定选择性的途径 6-7 配位滴定方式及其应用

§9-1 结构位移计算概述 §9-2 虚功和虚功原理 §9-3 结构位移计算的一般公式 §9-4 荷载作用下的位移计算 §9-5 图乘法 §9-6 静定结构温度变化时的位移计算 §9-7 线性变形体系的互等定理

5.1 系统差分方程及其经典解 5.1.1 差分方程 5.1.2 差分方程的解 5.2 零输入响应和零状态响应 5.2.1 零输入响应 5.1.2零状态响应 5.1.3 全响应 5.1.4 初始条件 5.3 单位序列响应和单位阶跃响应 5.3.1 单位序列响应 5.3.2 单位阶跃响应g(k) 5.4 卷积和 5.4.1 卷积和的定义及求解 5.4.2 借助单位序列响应与卷积和求解系统的零状态响应 5.4.3 卷积和常用性质

了解变形体系虚功原理的内容及其在结构位移计算中的应用；理解广义力及广义位移的概念；熟练掌握计算结构位移的单位荷载法；熟练掌握图乘法在位移计算中的应用；了解线性弹性体系的互等定理

一. 教学目的 理解广义力和广义位移的概念、虚功原理、单位荷载法、图乘法、互等定理。能利用单位荷载法正确的计算结构在荷载作用及支座移动下和温度变化下的位移