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火焰法沉积金刚石薄膜的组织结构
文档格式:PDF 文档大小:337.91KB 文档页数:4
用透射电镜(TEM)对大气中火焰法沉积(CFD)金刚石薄膜的组织结构进行了分析研究。结果表明,所沉积的金刚石晶体中{111}面上存在着大量层错及显微孪晶;在{111}面上晶粒边界处的位错密度较低。此外,在金刚石薄膜中还观察到存在于金刚石颗粒间的非金刚石型碳(C),即无定形碳及微晶石墨
淮北煤炭师范学院:《光学题库》第一章 光的干涉(2)
文档格式:DOC 文档大小:186.5KB 文档页数:3
一.选择题: 1.如图所示,折射率为 n2 、厚度为 e 的透明介质薄膜的 上方和下方的透明介质的折射率分别为 n1 和 n3,以知 n1< n2 < n3 , 若用波长为 λ 的单色光垂直入射到该薄膜 上,则从薄膜上、下两表面反射的光束①与②的光程差是 [ ]
长春理工大学:《薄膜光学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第一讲 绪论
文档格式:PPT 文档大小:238KB 文档页数:35
前言——光学薄膜的应用 薄膜光学是物理光学的一个重要分 支,它研究的对象是膜层对光的反射、 透射、吸收以及位相特性、偏振效应等, 简而言之,它主要研究光在分层媒质中 的传播规律性
大学物理:《光学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第一章 波动光学(1-4)薄膜等厚干涉
文档格式:PPT 文档大小:1.59MB 文档页数:20
一、薄膜干涉 我们知道,两束光产生干涉的条件(又称相干条件)为: (1)频率相同;(2).相位差恒定;(3).光矢量振动方向相同我们讲的薄膜指的是由透明介质形成的厚度很薄的一层介质膜
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第六讲 薄膜材料制备的等离子体辅助CVD方法 Preparation of thin films by plasma enhanced CVD process
文档格式:PPT 文档大小:576.5KB 文档页数:38
一、 等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法
CVD金刚石涂层硬质合金工具表面预处理新技术
文档格式:PDF 文档大小:989.86KB 文档页数:4
研究了利用(KOH+K3(Fe (CN)6)+H2O和H2SO4+H2O2)两种溶液浸蚀硬质合金基体,分别选择性刻蚀WC和Co的表面预处理过程.在浸蚀过的硬质合金基体上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石薄膜涂层.结果表明,两步混合处理法不仅可以有效地去除硬质合金基体表面的钻,而且还显著粗化硬质合金基体表面,提高了金刚石薄膜的质量和涂层的附着力
中南林学院资环学院:《设施园艺学》试卷之一
文档格式:DOC 文档大小:91KB 文档页数:3
一、单项选择题(在每小题的四个备选答案中,选出一个正确的答案,并将其代码填入题干后的横线上,每题1分,共20分) 1.聚氯乙烯薄膜和聚乙烯薄膜相比D A保温性强耐尘染 B保温性差不耐尘染 C保温性差耐尘染 D保温性强不耐尘染
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第三讲 薄膜材料制备的溅射法 Preparation of thin films by sputtering
文档格式:PPT 文档大小:759.5KB 文档页数:77
一、气体的放电现象与等离子体 二、物质的溅射效应和溅射产额 三、各种各样的溅射技术
电场增强镍薄膜的氢气吸附性能研究
文档格式:PDF 文档大小:424.75KB 文档页数:5
用自制的气体吸附测试装置进行了在电场作用下镍薄膜吸附氮气和氢气的实验.氮气吸附实验结果表明,充电吸附和放电解吸过程中的电信号可准确表征气体的吸附情况.氢气吸附实验结果表明,电场可以有效提高镍电极对氢气分子的吸附作用,电场强度越大,氢气吸附量越大.在电场强度不变时,提高氢气压力会对氢气吸附量带来较弱的提高.在电场作用下,氢气分子会被极化,从而使氢气分子更容易被吸附,并且有助于形成氢团簇
东南大学:《物理学》课程PPT教学课件(第五版)第十二章 气体动理论(11.3)光程 薄膜干涉
文档格式:PPT 文档大小:382KB 文档页数:17
11-3光程薄膜干涉 一、光程 光在真空中的速度 光在介质中的速度
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