利用Al-N-O选择性吸收层之间产生的干涉效应,改善吸收表面的光学性能(吸收率α和发射率ε).通过工艺实验确定了2种不同金属填充因子的双吸收层结构.与多层渐变吸收表面相比双吸收层结构吸收表面具有膜系结构简单、高温下性能稳定、发射率较低等优点.吸收表面的吸收率α为0.93~0.95,发射率ε(353K)为0.04~0.06

采用微波等离子体CVD两段式低温沉积技术,在700~400℃温度范围内沉积了红外增透性良好的金刚石薄膜,结果表明,采用高甲烷浓度可以实现较低沉积温度下的高密度形核,获得光学平整的金刚石薄膜,施加直流偏压的方法在低温下对金刚石形核的促进作用不明显,实验观测到的最大增透率达20%,最大红外透射率接近80%,可满足不同气氛下金刚石容器的应用

研制了一种无机材料构成的验电标识,放置在导线周围,通过电场驱动电子的运动,促进载流子复合,进而使材料发光,从而判断带电情况,其作为验电标识使用非常便捷.选取了氮化镓GaN材料进行研究,以GaN、InGaN等材料为基础,通过溶胶凝胶法、气相外延等方法制备接触层、基片层、材料层等结构,进而获得了验电标识,该验电标识的发光层是具有多量子肼结构的纳米棒阵列.然后对其进行了电学光学性能参数测试,获得了有关特性曲线,通过Ansoft-maxwell有限元软件进行仿真,分析材料在特高压输电线路周围的电场分布,通过试验分析验电标识发光所需求的电磁环境.最后模拟导线现场进行测试.研究表明,该低场致发光特性的验电标识具有发光功耗低,发光明显等优点,其处于所在区域的电场强度达到1.2×106V·m-1以上时,可激发发光,此时所注入电流约为1.1 mA.通过仿真和试验分析可知带电特高压输电线路周围的空间电场强度满足验电标识发光指示的要求,同时空间杂散电流和材料本身的电容效应提供注入电流.该验电标识通过材料本身发光特性来指示带电状态,安装在距离特高压导线轴线13 cm及以内的范围即可实现验电,通过封装具有较好的耐候性能,同时避免了复杂的电路装置验电存在易受电磁干扰,可靠性差等问题

在氮化镓中添加其他元素,有可能使其宽禁带变窄,从而提高其作为光催化剂的光利用效率.在1123K的氮化温度下,用氧化镓(Ga2O3)和氧化锌(ZnO)粉末与流动的NH3反应900min制备出黄色的氮化镓与氧化锌的固溶体Ga1-xZnxNO.探讨了制备工艺对所得粉体的影响,通过X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)以及紫外可见吸收光谱(UV-Vis)研究Ga1-xZnxNO的晶体结构和光学性能.所得Ga1-xZnxNO的粉末呈六角纤锌矿结构,紫外可见吸收光谱表明该物质的吸收峰位于可见光范围内

光的基本性质 光通过介质的现象 无机材料的透光性 界面反射和光泽 不透明性和半透明性 无机彩材料的颜色 其他光学性能的应用

一、基片 二、成膜工艺 三、性能检测

《高分子物理》课程教学资源（PPT课件）第十章 聚合物的电学性能、热性能、光学性能以及表面与界面性能

广东工业大学：《高分子物理》课程教学资源（课件讲稿）第十章 聚合物的电学性能、热学性能和光学性能

一、重要性 介质中的各种光学现象本质上是光和 物质相互作用的结果。从经典电子模 型出发,研究光和物质相互作用的微 观过程,是讨论介质中光的折射、散 射、吸收和色散等常见的线性光学现 象的物理本质的基础

01 化学性能02 力学性能 04 电性能 03 热性能 01 磁性 06 光学性能