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《微电子工艺》课程教学资源(PPT课件)第六章 离子注入
文档格式:PPT 文档大小:7.98MB 文档页数:128
本章重点: 离子注入工艺机理、注入方法; 核、电子阻止,杂质分布函数、特点; 注入损伤:原因、种类、主要影响因素; 退火:机理、方法; 离子注入和热扩散比较; 6.1 概述 6.2 离子注入原理 6.3 注入离子在靶中的分布 6.4 注入损伤 6.5 退火 6.6 离子注入设备与工艺 6.7 离子注入的其它应用
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电子科技大学成都学院微电子技术系:《集成电路原理》讲义
文档格式:PPT 文档大小:2.5MB 文档页数:117
绪论 0.前言 1.IC的分类 2.描述IC工艺技术水平的五个技术指标 3.微电子科学技术的发展历史 4.微电子发展的规律 5.半导体IC技术发展趋势 6.我国微电子发展概况
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复旦大学:微电子工程教学资源(参考论文)与工艺无关的Rail-to-Rail CMOS运算放大器
文档格式:PDF 文档大小:186.19KB 文档页数:5
复旦大学:微电子工程教学资源(参考论文)与工艺无关的Rail-to-Rail CMOS运算放大器
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复旦大学:《光子学器件与工艺 Photonics Devices and Technology》教学课件_第一章 绪论——光子学:发展及其分支(张荣君)
文档格式:PDF 文档大小:691.44KB 文档页数:41
从光电子与微电子相似的发展规律出发,阐述微电子对于信息技术的重要作用以及对发展光电子产业的启迪。正确把握光电子与微电子相互促进、相互依存、并行发展的客观规律。信息的需求量仍呈指数增长,必须保持清醒的头脑,“机遇与挑战并存”对发展光电子与信息产业上更具现实意义
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《芯片制造半导体工艺实用教程》PPT教学课件:第一章 半导体工业介绍
文档格式:PPT 文档大小:1.73MB 文档页数:13
微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第一章 半导体工业介绍
文档格式:PPT 文档大小:1.77MB 文档页数:15
第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
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阵列波导光栅薄膜的制备及性能
文档格式:PDF 文档大小:575.76KB 文档页数:4
以一种特定成分的有机硅为原料,采用溶胶-凝胶法,在硅基片上制备出用于光波导器件的薄膜.通过折射率和厚度测试及XPS成分测试验证了此薄膜具有较好的均匀性、厚度和光学特性,满足光波导器件的要求.分析了溶胶-凝胶法中常见的龟裂现象的原因以及采预防方法.利用这种薄膜结合微电子加工工艺制备出光波导器件阵列波导光栅
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复旦大学:《光子学器件与工艺 Photonics Devices and Technology》教学课件_第九章 集成电路工艺简介——光子学器件中用到的微电子工艺(部分有源和无源器件用到的工艺)
文档格式:PDF 文档大小:5.93MB 文档页数:287
一、薄膜制备工艺 二、光刻工艺 三、刻蚀工艺(Etch Process) 四、掺杂工艺 五、氧化工艺 六、其它工艺 • CMP(chemical mechanical planarization) • SOI (silicon on insulator) • 铜互连 • 硅片键合与背面腐蚀技术 • 注氧隔离技术(SIMOX) • 智能剥离技术
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佛山科学技术学院:光源与照明专业理论课教学大纲(2018级)
文档格式:PDF 文档大小:1.93MB 文档页数:204
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